Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
14/06/2011
RPI 2110
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Dado oficial do INPI
COMPOSIÇÃO CATALÍTICA E PROCESSO PARA PRODUZIR A MESMA
IndeferidaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0103041Tipo
Patente de Invenção
Depósito
26/07/2001
Publicação
30/04/2002
Andamento no INPI
- Depósito26/07/01
- Publicação30/04/02
- Exame
- Indeferido14/06/11
- Concessão
- Em vigor
Pedido indeferido em 14/06/2011 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/06/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
BP Chemicals Limited
GB
Johnson Matthey Public Limited Company
GB
Inventores
G. S. (pessoa física)
US
J. M. (pessoa física)
GB
J. C. (pessoa física)
GB
K. G. (pessoa física)
GB
M. B. (pessoa física)
GB
P. J. (pessoa física)
GB
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/626,156 · 26/07/2000
Resumo técnico
"COMPOSIÇÃO CATALÍTICA E PROCESSO PARA PRODUZIR A MESMA". Um processo para preparar uma composição catalítica de metal suportada que compreende a impregnação de partículas de suporte micro-esféricas com uma solução de pelo menos um metal cataliticamente ativo, ou precursor, secar as partículas de suporte impregnadas e depois tratar o metal móvel, ou precursor, em um estado móvel com um líquido que compreende pelo menos um agente redutor para depositar e imobilizar o metal, ou seu precursor, nas partículas de suporte tal que o metal, ou seu precursor, seja distribuído na partícula de suporte em uma camada abaixo da superfície da partícula de suporte, a camada sendo entre uma região interna e uma região externa tendo uma concentração mais baixa de metal ou precursor. Além disso, uma composição que compreende partículas de suporte micro-esféricas com pelo menos um metal cataliticamente ativo ou precursor do mesmo distribuído em uma camada abaixo da superfície das partículas, a camada sendo entre uma região interna e uma região externa da partícula de suporte, cada um tendo uma concentração inferior do metal ou do precursor.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Indeferimento
#9.2
09/03/2011
RPI 2096
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
14/09/2010
RPI 2071
Publicação do pedido de patente
#3.1
30/04/2002
RPI 1634
Pedido de patente depositado
#2.1
18/09/2001
RPI 1602
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