Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
13/12/2005
RPI 1823
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Dado oficial do INPI
POLIESTERPOLIÓIS DE BAIXO PESO MOLECULAR ALIFÁTICOS, SUA PREPARAÇÃO E APLICAÇÃO EM AGENTES DE REVESTIMENTO ALTAMENTE VALIOSO
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0102871Tipo
Patente de Invenção
Depósito
11/07/2001
Publicação
26/02/2002
Andamento no INPI
- Depósito11/07/01
- Publicação26/02/02
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 11/07/2001, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 13/12/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Solutia Austria GMBH
AT
Inventores
A. L. (pessoa física)
AT
U. E. (pessoa física)
DE
U. K. (pessoa física)
AT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
100 33 512.8 · 11/07/2000
Resumo técnico
Patente de Invenção: "POLIESTERPOLIÓIS DE BAIXO PESO MOLECULAR ALIFÁTICOS, SUA PREPARAÇÃO E APLICAÇÃO EM AGENTES DE REVESTIMENTO ALTAMENTE VALIOSOS". Poliéster-polióis de baixo peso molecular com uma massa molar de média de peso M~ w~ de até 3500 g/moles, com índices hidroxila de 80 até 280 mg/g e índices de acidez de 5 até 40 mg/g, contendo elementos de composição estruturais derivados de compostos mono- ou policíclicos alifáticos com pelo menos dois grupos hidroxila e/ou epóxido e pelo menos um heteroátomo, compostos polihidróxi alifáticos, acíclicos ou cíclicos com três ou mais grupos hidroxila por molécula, compostos dihidróxi alifáticos, lineares ou ramificados e ácidos policarboxílicos cíclicos alifáticos, eventualmente em mistura com copolímeros de acrilato de baixo peso molecular, podem ser elaborados em lacas de rápida secagem e fornecem superfícies sem obstáculos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
20/09/2005
RPI 1811
Publicação do pedido de patente
#3.1
26/02/2002
RPI 1625
Pedido de patente depositado
#2.1
04/09/2001
RPI 1600
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