Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1930 de 02/01/2008.
03/06/2008
RPI 1952
Dados do pedido
Número
PI0017440Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2000042759 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 03/06/2008. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Kodak Polychrome Graphics Company Ltd
GB
Inventores
C. H. (pessoa física)
DE
F. M. (pessoa física)
US
J. P. (pessoa física)
US
J. H. (pessoa física)
US
K. S. (pessoa física)
US
N. M. (pessoa física)
US
S. S. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/469,490 · 22/12/1999
Resumo técnico
POLÍMERO. A presente invenção refere-se a um polímero selecionado do grupo consistindo em terpolímero de acrilato de etila, metacrilato de metila e o aduto de uréia de 1-(1-isocianato-1-metil)etil-3-(1-metil)etenil benzeno (rn-TDI) com p-aminofenol (AR-1); terpolímero de acrilonitrila, metacritamida e o aduto de uréia de 1 -(1 -isocianato-1 -metil)etil-3-(1 -metil)etenil benzeno (rn-TDI) com p-aminofenol (AR-2); terpolímero de metacrilamida, N-fenilmaleimida e o aduto de uréia de 1-(1-isocianato-1-metil)etil-3-(1-metil)etenil beizeno (m-TDI) com p-aminofenol (AR-4); e tetrapolímero de acrilonitrila, metacrilamida, N-fenilmaleimida e o aduto de uréia de 1-(1-isocianato-1-metil)etil-3-(1 -metil)etenil benzeno (m-TDI) com 2-amino-4-sulfonamidofenol (AR-5).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1930 de 02/01/2008.
03/06/2008
RPI 1952
#8.6
referente á 5ª anuidade.
02/01/2008
RPI 1930
#2.4
Notificação de entrada na fase nacional (1.3) publicada na RPI 1652 de 03/09/2002.
20/12/2005
RPI 1824
#1.3
03/09/2002
RPI 1652
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