Dado oficial do INPI

APARELHO DE LAMINAÇÃO ASSISTIDO POR VÁCUO DIRECIONADO PARA LAMINAR UM FILME EM UM SUBSTRATO, E, MÉTODO DE LAMINAÇÃO DE UM FILME EM UM SUBSTRATO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2000027247

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Dados do pedido

Número

PI0017247

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

03/10/2000

Publicação

11/02/2003

PCT

US2000027247

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Andamento no INPI

Depósito03/10/00
Publicação11/02/03
Arquivado
Deferimento
Concessão
Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/12/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

3M Innovative Properties Company

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Inventores

A. D. (pessoa física)

B. B. (pessoa física)

C. A. (pessoa física)

J. D. (pessoa física)

R. S. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

B29C 63/02 G05D 1/03

Prioridades unionistas

09/576624 · 23/05/2000

Resumo técnico

"APARELHO DE LAMINAÇÃO ASSISTIDO POR VÁCUO DIRECIONADO PARA LAMINAR UM FILME EM UM SUBSTRATO, E, MÉTODO DE LAMINAÇÃO DE UM FILME EM UM SUBSTRATO". São divulgados um aparelho de laminação assistido por vácuo direcionado e métodos de utilização do mesmo. O aparelho inclui um laminador assistido por vácuo (610) para aplicar filmes de formato grande em substratos (624), em que a pressão de laminação é gerada, pelo menos parcialmente, por um vácuo gerado em uma cavidade de vácuo. O aparelho também inclui um sistema de direção para controlar a posição vertical do laminador e um veículo (690) para mover o laminador (610) ao longo do substrato em uma direção desejada.