Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
27/09/2011
RPI 2125
Dados do pedido
Número
PI0016112Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2000030552 Pedido indeferido em 27/09/2011 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/09/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
C. C. (pessoa física)
US
Inventores
B. G. (pessoa física)
US
B. B. (pessoa física)
US
G. A. (pessoa física)
US
L. B. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/452.972 · 02/12/1999
Resumo técnico
"MÉTODO PARA INIBIR A POLIMERIZAÇÃO PREMATURA DE MONÔMEROS ETILENICAMENTE INSATURADOS E COMPOSIÇÃO". É revelado aqui um método para inibir a polimerização prematura de monômeros etilenicamente insaturados caracterizado por compreender a adição aos monômeros de uma quantidade efetiva de uma mistura compreendendo: A) pelo menos um composto de nitroxila retardado estável tendo a fórmula estrutural: em que R~ 1~ e R~ 4~ são selecionados independentemente do grupo consistindo em hidrogênio, alquil, e alquil de heteroátomo-substituído e R~ 2~ e R~ 3~ são selecionados independentemente a partir do grupo consistindo em alquil e alquil de heteroátomo-substituído; e X~ 1~ e X~ 2~ (1) são selecionados independentemente do grupo consistindo em halogênio, ciano, COOR~ 7~, -S-COR~ 7~, -OCOR~ 7~, em que R~ 7~ é alquil ou aril, amido, -S-C~ 6~H~ 5~, carbonil, alquenil, ou alquil de 1 a 15 átomos de carbono, ou (2) considerado em conjunto, formam uma estrutura de anel com o nitrogênio; e B) pelo menos um inibidor selecionado do grupo consistindo em orto-quinona, orto-hidroquinona, para-quinona, para-hidroquinona, e derivados dos anteriormente mencionados.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
27/09/2011
RPI 2125
#9.2
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#7.1
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#1.3
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