Dado oficial do INPI

AGENTE DE RETICULAÇÃO A BASE DE COMPOSTOS DE POLI (ÉTER ALÍLICO)

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · JP2000007183

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Dados do pedido

Número

PI0015230

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

17/10/2000

Publicação

23/07/2002

PCT

JP2000007183

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Andamento no INPI

Depósito17/10/00
Publicação23/07/02
Arquivado
Deferimento
Concessão
Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/12/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Daiso CO., LTD. (Daiso Kabushiki Kaisha)

Inventores

S. N. (pessoa física)

T. M. (pessoa física)

Y. S. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

C08F 8/00 C08J 3/24 C08K 5/06 C08L 33/02

Prioridades unionistas

11/299555 · 21/10/1999

11/299556 · 21/10/1999

Resumo técnico

"AGENTE DE RETICULAÇÃO À BASE DE COMPOSTOS DE POLI (ÉTER ALÍLICO)". Um agente de reticulação contendo um composto de poli (éter alílico), tendo pelo menos um grupo hidroxila derivado de um grupo glicidila e pelo menos dois grupos alila, pode ser usado para a produção de um polímero de alta absorvência de água compreendendo um composto polimerizável tendo uma dupla-ligação carbono - carbono ou um sal dele, tem uma alta solubilidade em solução aquosa do monômero e produz um polímero de alta absorvência de água tendo a absorvência de água requerida em níveis práticos.