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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA PREPARAR UM MEIO DE SINTERIZAÇÃO, MEIO DE SINTERIZAÇÃO, COMPOSIÇÃO À BASE DE TITANATO DE BÁRIO, E CAPACITOR DE DIVERSAS CAMADAS DE CERÂMICA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2000022830

Dados do pedido

Número

PI0013575

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/08/2000

Publicação

29/04/2003

PCT

US2000022830

Andamento no INPI

  1. Depósito18/08/00
  2. Publicação29/04/03
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 18/08/2000, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/12/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

C. C. (pessoa física)

US

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Inventores

D. M. (pessoa física)

US

J. K. (pessoa física)

US

K. T. (pessoa física)

US

S. V. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

60/150.270 · 23/08/1999

US

60/177.527 · 21/01/2000

Resumo técnico

"MÉTODO PARA PREPARAR UM MEIO DE SINTERIZAÇÃO, MEIO DE SINTERIZAÇÃO, COMPOSIÇÃO À BASE DE TITANATO DE BÁRIO, E CAPACITOR DE DIVERSAS CAMADAS DE CERÂMICA". A presente invenção refere-se a um meio de sinterização à base de silicato e a um método para produzir o meio de sinterização. O meio de sinterização, ou frita, pode ser adicionado a composições dielétricas, incluindo composições à base de titanato de bário, para diminuir a temperatura de sinterização. O meio de sinterização pode ser um silicato de um ou de vários componentes produzido através de uma reação de precipitação por meio da mistura de soluções que incluem uma espécie de silício e uma espécie de metal alcalino terroso. O meio de sinterização pode ser produzido como partículas com tamanho de nanômetros, ou como revestimentos sobre as superfícies de partículas dielétricas pré-formadas. Composições díelétricas que incluem o meio de sinterização podem ser usadas para formar camadas dielétricas em MLCCs e, em particular, camadas dielétricas ultrafinas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

13/12/2005

RPI 1823

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

13/09/2005

RPI 1810

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

29/04/2003

RPI 1686

Monitoramento de patentes

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