Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
13/12/2005
RPI 1823
Dados do pedido
Número
PI0013024Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2000024347 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 31/08/2000, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 13/12/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Qiagen Genomics, INC.
US
Inventores
B. S. (pessoa física)
GB
C. L. (pessoa física)
GB
S. W. (pessoa física)
GB
S. F. (pessoa física)
GB
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/151.769 · 31/08/1999
Resumo técnico
"COMPOSTOS ENANTIOMERICAMENTE ENRIQUECIDOS TENDO LIGAÇÃO(ÕES) FOTOCLIVÁVEL(IS) E MÉTODOS RELACIONADOS AOS MESMOS". A presente invenção prove um composto tendo a fórmula (I) ou (II) : onde R^1^ é selecionado de halogênio e frações orgânicas; R^2^ e R^3^ são independentemente selecionados de hidrogênio e frações orgânicas tendo uma massa maior do que 15 Daltons onde R^2^e R^3^ podem juntos formar um grupo de carbonila ou podem ser unidos dentro de uma estrutura cíclica; Z é um átomo valente (n+1) excluindo carbono onde n é um número inteiro maior do que 0; R^4^ é independentemente selecionado de hidrogênio, halogênio e frações orgânicas tendo uma massa maior do que 15 Daltons, com a condição de que pelo menos um R^4^ (a saber R^4a^) é uma fração orgânica tendo uma massa maior do que 100 Daltons; R^5^ em cada ocorrência é independentemente halogênio ou uma fração orgânica tendo uma massa menor do que 500 Daltons; m é selecionado de 0, 1, 2, 3 e 4; onde se R^2^ = R^3^= H, então R^1^ não é C0~2~(H r CH~3~) quando Z(R~4~)~n~ é de -NH(CO)-CH(iBu)-NH(CO)-(CH~2~Ph ou O-t-Bu) e R~4~não é CH~2~CO~2~ t-Bu quando Z é OH; e onde se compostos das duas fórmulas (I) e (II) estiverem presentes em uma mistura, a razão molar da fórmula (I) :fórmula (II) na mistura é diferente de 50:50. Os compostos são úteis como marcadores, incluindo marcadores detectáveis por espectrometria de massa.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
13/12/2005
RPI 1823
#11.1
13/09/2005
RPI 1810
#1.3
18/06/2002
RPI 1641
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