Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2051 de 27/04/2010.
14/06/2011
RPI 2110
Dados do pedido
Número
PI0012788Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2000020305 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/06/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Kerr-Mcgee Chemical, LLC
US
Inventores
C. N. (pessoa física)
US
W. Y. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/361.003 · 27/07/1999
Resumo técnico
"PROCESSO E APARELHO PARA REAGIR REAGENTES GASOSOS CONTENDO PARTÍCULAS SÓLIDAS". A presente invenção fornece processos e aparelho melhorados (12, 14) para reagir altas taxas de fluxo de um ou mais reagentes gasosos em reatores tubulares (19). Os processos e aparelho melhorados (12, 14) permitem que tais reações sejam executadas com uma baixa queda de pressão através do reator (19) sem excessiva erosão devida às partículas sólidas carregadas com ou capturadas pelos reagentes gasosos. Um processo desta invenção é basicamente compreendido das etapas de fazer escoar um reagente gasoso que pode conter ou capturar partículas sólidas em uma primeira câmara de estabilização anular (36) seguida por uma segunda câmara de estabilização anular de diâmetro maior (46) e então introduzir os reagentes gasosos e as partículas sólidas em um reator (19) por meio de duas ou mais fendas radiais (59) através das quais o reagente gasoso e as partículas sólidas são fluidos para dentro do reator (19) e são uniformemente distribuídos neste.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2051 de 27/04/2010.
14/06/2011
RPI 2110
#8.6
Referente a 7ª,8ª e 9ª anuidades.
27/04/2010
RPI 2051
#1.3
23/07/2002
RPI 1646
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Monitoramento de patentes
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