Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
17/08/2004
RPI 1754
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Dado oficial do INPI
AMBIENTE DE ESCOAMENTO DE AR LIMPO AJUSTÁVEL
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2000011736
Dados do pedido
Número
PI0010053Tipo
Patente de Invenção
Depósito
28/04/2000
Publicação
02/07/2002
PCT
US2000011736 Andamento no INPI
- Depósito28/04/00
- Publicação02/07/02
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 28/04/2000, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 17/08/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
S. C. (pessoa física)
US
Inventores
G. H. (pessoa física)
US
W. S. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/131,461 · 28/04/1999
Resumo técnico
"AMBIENTE DE ESCOAMENTO DE AR LIMPO AJUSTÁVEL". Recintos fechados tendo ambientes de escoamento de gás limpo ajustáveis e processos de tecnologia de distribuição diferencial de pressão em recintos fechados. Especificamente, recintos fechados de escoamento de gás limpo, que fornecem o isolamento de materiais de contaminação por microparticulados aerotransportados. Uma concretização da invenção utiliza um ambiente de escoamento de gás limpo, selecionável, modular, de tamanho pequeno, para o manejo e o isolamento de materiais. O ambiente pode ser um ambiente de classe de sala limpa por fornecimento de gás filtrado a partir de um gerador de gás (12) através de um filtro de gás (13) para um espaço de escoamento de gás filtrado (20). Uma concretização da invenção fornece uma primeira câmara de repartição de ar (23) e uma segunda câmara de repartição de ar (26), de modo que tanto o escoamento de gás filtrado horizontal quanto o escoamento de gás filtrado vertical podem ser usados separadamente ou em combinação dentro do mesmo espaço de escoamento de gás filtrado (20).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
23/12/2003
RPI 1720
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
02/07/2002
RPI 1643
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