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Dado oficial do INPI

ADITIVO ANTI-FORMAÇÃO DE MANCHA E COMPOSIÇÃO DE POLIORGANOSSILOXANO CURÁVEL A TEMPERATURA AMBIENTE

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0007343

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/02/2000

Publicação

27/11/2001

Andamento no INPI

  1. Depósito28/02/00
  2. Publicação27/11/01
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 28/02/2000, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 10/08/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Dow Corning Toray Silicone Company, LTD.

JP

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Inventores

S. H. (pessoa física)

JP

T. O. (pessoa física)

JP

W. N. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

11-051014 · 26/02/1999

Resumo técnico

Patente de Invenção: "ADITIVO ANTIFORMAÇÃO DE MANCHA E COMPOSIÇÃO DE POLIORGANOSSILOXANO CURÁVEL EM TEMPERATURA AMBIENTE". Um aditivo antiformação de mancha que compreende um composto de organossilício modificado com éster de ácido alifático insaturado superior que é produzido por realização de uma reação de adição entre (a) um éster de ácido alifático insaturado superior que contém mais do que uma ligação alifaticamente insaturada ligada em cada molécula e (b) um composto de organossilício que contém pelo menos 1 átomo de hidrogênio ligado a silício em cada molécula com as ligações alifaticamente insaturadas no componente (a) presentes em excesso molar no hidrogênio ligado a silício no componente (b). O aditivo pode ser usado em 0,01 a 50 por cento em peso em uma composição de poliorganossiloxano que cura em temperatura ambiente por uma reação de condensação.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

10/08/2004

RPI 1753

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

16/12/2003

RPI 1719

Publicação do pedido de patente

#3.1

27/11/2001

RPI 1612

Pedido de patente depositado

#2.1

26/06/2001

RPI 1590

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