Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
referente ao despacho publicado na RPI 1937 de 19/02/2008.
12/08/2008
RPI 1962
Dados do pedido
Número
PI0007114Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 12/08/2008. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Applied Oxidation Technologies (2000) Inc.
CA
Inventores
L. L. (pessoa física)
CA
S. K. (pessoa física)
CA
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CA
2.272.596 · 21/05/1999
Resumo técnico
MÉTODO E APARELHO PARA TRATAMENTO DE ÁGUA RESIDUAL Um método para separar contaminantes de uma fonte aquosa que contém contaminantes. Em uma modalidade, o método envolve o uso de um oxidante altamente pulverizado dissolvido no sistema aquoso. O gás é dissolvido em um reservatório na solução aquosa e a pressão dentro do reservatório é controlável. Isto permite o contato máximo do gás dissolvido de oxidação com o material contaminante. Quando oxidado, a saída do reservatório é adaptada para permitir cavitação hidráulica. O efeito líquido da cavitação é induzir uma formação de espuma cuja espuma transporta um floco para uma fase separada da solução aquosa. Desse modo, o processo é efetivamente um processo de transferência de massa de gás de oxidação, dissolvido. Em outra modalidade, o processo pode ser aumentado por eletrocoagulação. Isto envolve o uso de uma célula elétrica que é disposta dentro do reservatório que contém o material oxidante. Pela provisão de eletrodos e exposição dos eletrodos a uma fonte de corrente, os contaminantes dentro da solução aquosa são oxidados ou de outro modo degradados e isto complementa a oxidação pelo oxidante gasoso dissolvido. Um aparelho também é revelado para efetuar os métodos expostos acima.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
referente ao despacho publicado na RPI 1937 de 19/02/2008.
12/08/2008
RPI 1962
#8.6
Referente a 7ª anuidade.
19/02/2008
RPI 1937
#3.1
12/06/2001
RPI 1588
#2.1
24/04/2001
RPI 1581
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