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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO SENSÍVEL À RADIAÇÃO, USO DE UM COMPOSTO DE SAL DE DIARILIODÔNIO, MÉTODO PARA POLIMERIZAÇÃO, SUBSTRATO REVESTIDO, MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE IMAGENS, FOTORRESISTOR E COMPOSTO DE SAL DE DIARILIODÔNIO.

ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0006227

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/12/2000

Publicação

30/07/2002

Andamento no INPI

  1. Depósito21/12/00
  2. Publicação30/07/02
  3. Exame
  4. Deferimento16/06/09
  5. Concessão17/11/09
  6. Extinto13/04/21

Patente concedida em 17/11/2009 e depois extinta em 13/04/2021. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/04/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.

CH

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Inventores

H. Y. (pessoa física)

JP

J. B. (pessoa física)

CH

J. W. (pessoa física)

CH

R. S. (pessoa física)

DE

S. I. (pessoa física)

CH

T. A. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

CH

2343/99 · 21/12/1999

Resumo técnico

"SAIS DE IODÔNIO COMO DOADORES ÁCIDOS LATENTES". Composições sensíveis à radiação compreendendo (a1) um composto polimerizável ou reticulável cationicamente ou cataliticamente com ácido, ou (a2) um composto que aumente a sua solubilidade em uma solução de desenvolvimento sob a ação do ácido; e b) pelo menos um sal de diariliodônio da fórmula I (I), onde X é C~ 3~-C~ 20~ alquila ou C~ 3~-C~ 8~ cicloalquila ramificada; X~ 1~ é hidrogênio, C~ 1~-C~ 20~ alquila linear, C~ 3~-C~ 20~ alquila ou C~ 3~-C~ 8~ Cicloalquila ramificada; contanto que a soma dos átomos de carbono em X e X~ 1~ seja pelo menos 4; Y é C~ 1~-C~ 10~ alquila linear, C~ 3~-C~ 20~ alquila ou C~ 3~-C~ 8~ cicloalquila ramificada; A^ -^ é um ânion não-nucleofílico, selecionado do grupo (BF~ 4~)^ -^, (SbF~ 6~)^ -^, (PF~ 6~)^ -^, (B(C~ 6~F~ 5~))~ 4~^ -^, C~ 1~-C~ 20~ alquilsulfonato, C~ 2~-C~ 20~ haloalquilsulfonato, C~ 6~-C~ 10~ arilsulfonato não-substituído, canforsulfonato, e C~ 6~-C~ 10~ arilsulfonato substituído por halogênio, NO~ 2~, C~ 1~-C~ 12~ alquila, C~ 1~-C~ 12~ halo-alquila, C~ 1~-C~ 12~ alcóxi ou por COOR~ 1~, e R~ 1~ é C~ 1~-C~ 20~ alquila, fenila, benzila; ou fenila mono ou polissubstituída por C~ 1~-C~ 12~ alquila, C~ 1~-C~ 12 alcóxi ou por halogênio; contanto que os dois anéis fenila no átomo de iodo não sejam substituídos identicamente, tenham alta sensibilidade, alta estabilidade em armazenamento, boa solubilidade e uma baixa tendência a cristalizar.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2607 de 22-12-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

13/04/2021

RPI 2623

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 11ª anuidade.

22/12/2020

RPI 2607

24.6

Anulada a publicação código 24.8 na RPI nº 2259 de 22/04/2014 por ter sido indevida.

08/12/2020

RPI 2605

24.8

22/04/2014

RPI 2259

24.3

Referente à 11ª e 12ª anuidade(s), conforme art. 87 da LPI 9.279.

18/09/2012

RPI 2176

Concessão da patente

#16.1

17/11/2009

RPI 2028

Deferimento

#9.1

16/06/2009

RPI 2006

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

28/10/2008

RPI 1973

Publicação do pedido de patente

#3.1

30/07/2002

RPI 1647

Republicação do depósito

#2.7

Referente a RPI 1569 de 30/01/01, quanto ao ítem (71)

22/01/2002

RPI 1620

Pedido de patente depositado

#2.1

30/01/2001

RPI 1569

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