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Dado oficial do INPI

REATOR FOTOELETROLITICO PARA TRATAMENTO DE CHORUME

IndeferidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0004987

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

17/10/2000

Publicação

04/06/2002

Andamento no INPI

  1. Depósito17/10/00
  2. Publicação04/06/02
  3. Exame
  4. Indeferido16/11/10
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 16/11/2010 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/11/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Universidade Estadual de Campinas - Unicamp

SP, BR

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Inventores

R. B. (pessoa física)

BR

R. P. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"REATOR FOTOELETROLÍTICO PARA TRATAMENTO DE CHORUME". Este trabalho refere-se ao desenvolvimento de um reator fotoeletrolítico para tratamento de chorume de lixo doméstico gerado em aterro sanitário. O reator permitiu o emprego dos processos fotoeletroquímico e fotoquímico aplicados em sequência. O reator dispõe de um sistema de recirculação operando com dois conjuntos de capacidade 1O litros cada, um para tratamento fotoeletroquímico e o outro para tratamento fotoquímico, de modo que o chorume passasse pelos dois processos. O conjunto fotoeletroquímico conta com dispositivo anodo/catodo em forma cilíndrica colocado um dentro do outro, sendo o anodo tipo DAS com semicondutores imobilizados e o catodo em tela metálica para permitir a passagem da radiação luminosa. No centro do catodo um tubo de quartzo com lâmpada de irradiação UV visível. O conjunto fotoquímico dispõe também de lâmpada UV visível e um sistema de refrigeração a água. O reator garantiu a despoluição do chorume que foi acompanhada através das reduções da coloração, do teor de Carbono Orgânico Total, da Demanda Química de Oxigênio ( DQO ), da Demanda Bioquímica de Oxigênio ( DBO ) e da toxicidade em um tempo máximo de 300 min de tratamento.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.

16/11/2010

RPI 2080

Indeferimento

#9.2

Indefiro o pedido de acordo com o artigo 8º da LPI.

25/05/2010

RPI 2055

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Devolução de Prazo Concedida - Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 15 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.

06/10/2009

RPI 2022

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

06/01/2009

RPI 1983

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/06/2002

RPI 1639

Pedido de patente depositado

#2.1

28/11/2000

RPI 1560

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