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Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO DE ORIENTAÇÃO DE UM MÍSSIL

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0003426

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/07/2000

Publicação

13/03/2001

Andamento no INPI

  1. Depósito27/07/00
  2. Publicação13/03/01
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/09/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. M. (pessoa física)

FR

Inventores

M. A. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

FR

9909916 · 30/07/1999

Resumo técnico

"PROCESSO E DISPOSITIVO DE ORIENTAÇÃO DE UM MÍSSIL". A presente invenção diz respeito a um processo de orientação por meio de varredura laser de um míssil (M) em direção a um alvo (T), segundo o qual observa-se um campo (5), no qual o dito míssil (M) é suscetível de evoluir, para localizar este último no dito campo (5), bem como um dispositivo para a implementação do dito processo. De acordo com a invenção, no dito campo (5), determina-se uma zona (8) em volta da posição instantânea do dito míssil (M) assim localizado, e efetua-se a varredura laser unicamente na dita zona (8).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

referente ao não cumprimento do despacho 8.6 na RPI 2264 de 27/05/2014.

16/09/2014

RPI 2280

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 14ª anuidade.

27/05/2014

RPI 2264

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

05/07/2011

RPI 2113

Publicação do pedido de patente

#3.1

13/03/2001

RPI 1575

Pedido de patente depositado

#2.1

28/11/2000

RPI 1560

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