Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 30.06.2020
23/02/2021
RPI 2616
Dados do pedido
Número
PI0002955Tipo
Depósito
Publicação
Carta-patente expirada em 23/02/2021: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/02/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Hydro Aluminium Deutschland GmbH
DE
VAW Aluminium AG
DE
Inventores
D. G. (pessoa física)
DE
D. K. (pessoa física)
DE
W. A. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
199 30 720.2 · 02/07/1999
DE
199 56 692.5 · 25/11/1999
Resumo técnico
Patente de Invenção: "TIRA LITOGRÁFICA E MÉTODO PARA SUA FABRICAÇÃO" . Uma tira litográfica para uso em chapas de impressão offset é descrita tendo uma composição de 0,05 - 0,25% Si, 0,30 - 0,40% Fe, 0,10 - 0,30% Mg, máx 0,05% Mn, e máx 0,04% Cu. A tira é produzida de um lingote lingotado continuamente com a composição acima até uma espessura de até 2-7 mm. A razão de resistência residual da tira laminada a quente é RR = 10-20. A laminação à frio é executada com ou sem recozimento intermediário, onde o grau de redução de laminação após o recozimento intermediário é > 60%. O outro processamento até a aspereza eletroquímica ocorre com a microestrutura ajustada no processo de laminação a < 100°C. A tira litográfica é caracterizada por uma alta estabilidade térmica, um bom comportamento de aspereza nos processos eletroquímicos, e uma alta resistência à fadiga de flexão invertida perpendicular à direção de laminação.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 30.06.2020
23/02/2021
RPI 2616
#25.4
Alterado de: VAW Aluminium AG
01/02/2011
RPI 2091
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020090049297/RJ de 22/05/2009.
01/02/2011
RPI 2091
#16.1
10/03/2009
RPI 1992
#9.1
30/09/2008
RPI 1969
#6.1
29/01/2008
RPI 1934
#7.1
05/06/2007
RPI 1900
#3.1
03/04/2001
RPI 1578
#2.1
28/11/2000
RPI 1560
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