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Dado oficial do INPI

PROCESSOS PARA REMOVER IMPUREZAS DE MERCÚRIO E SELÊNIO DE UMA SOLUÇÃO DE DEPURAÇÃO ÁCIDA, PARA TRATAR UMA SOLUÇÃO ÁCIDA, PARA RECUPERAR MERCÚRIO E SELÊNIO DE UMA SOLUÇÃO ÁCIDA E PARA REMOVER SELÊNIO DE UMA SOLUÇÃO DE DEPURAÇÃO ÁCIDA.

ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0002611

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

09/06/2000

Publicação

02/01/2001

Andamento no INPI

  1. Depósito09/06/00
  2. Publicação02/01/01
  3. Exame
  4. Deferimento27/11/07
  5. Concessão22/04/08
  6. Extinto31/07/18

Patente concedida em 22/04/2008 e depois extinta em 31/07/2018. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 31/07/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Noranda Inc.

CA

Inventores

G. M. (pessoa física)

CA

G. H. (pessoa física)

CA

L. R. (pessoa física)

CA

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

09/329353 · 10/06/1999

Resumo técnico

''APARELHO, INSTALAÇÃO DE TRATAMENTO E PROCESSO PARA REMOVER IMPUREZAS DE UMA SOLUÇÃO DE ÁCIDO FRACO, INSTALAÇÃO E PROCESSO PARA TRATAR UMA SOLUÇÃO DE ÁCIDO FRACO, TORTA DE SELÊNIO CONCENTRADA E PROCESSO PARA REMOVER SELÊNIO DE UMA SOLUÇÃO DE DEPURAÇÃO ÁCIDA''. A presente invenção se refere a um aparelho para remover impurezas volatéis tais como mercúrio e selênio de uma solução de ácido fraco resultantes de depuração de gases gerados na produção de ácido sulfúreo por ustulação de concentrados de sulfeto. O aparelho compreende uma unidade de filtração de calcinado para remover calcinado da solução de ácido fraco, uma unidade de mistura de sulfeto de sódio para precipitar mercúrio da solução de ácido fraco, uma unidade de mistura de ditionito de sódio para precipitar selênio da solução de ácido fraco e uma unidade de filtração de mercúrio-selênio para filtrar o mercúrio e o selênio precipitados da solução de ácido fraco. A presente invenção ainda se refere a uma instalação de tratamento que utiliza este processo, um processo para remover impurezas voláteis de uma solução de ácido fraco e uma torta de selênio obtida pela utilização da presente invenção.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2466 de 10-04-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

31/07/2018

RPI 2482

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 18ª anuidade.

10/04/2018

RPI 2466

Concessão da patente

#16.1

22/04/2008

RPI 1946

Deferimento

#9.1

27/11/2007

RPI 1925

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/01/2001

RPI 1565

Pedido de patente depositado

#2.1

28/11/2000

RPI 1560

Monitoramento de patentes

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