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Dado oficial do INPI

ÓXIDO MISTO DE SILÍCIO-ALUMÍNIO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0002102

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/04/2000

Publicação

31/10/2000

Andamento no INPI

  1. Depósito28/04/00
  2. Publicação31/10/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 06/12/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

D. A. (pessoa física)

DE

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Inventores

D. K. (pessoa física)

DE

H. M. (pessoa física)

DE

K. D. (pessoa física)

DE

R. G. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

199 19 635.4 · 30/04/1999

Resumo técnico

Patente de Invenção: "ÓXIDO MISTO DE SILÍCIO-ALUMÍNIO" . Um óxido misto de silício-alumínio produzido por hidrólise por chama e tendo uma composição de 1 a 99,999% em peso de Al~ 2~ O~ 3~ , o restante sendo SiO~ 2~ , em que o pó apresenta uma estrutura amorfa na difração de raios X e consiste em partículas intercrescidas, e nessas partículas primárias estão presentes cristalitos, e esses cristalitos têm tamanhos entre um e 200 nanômetros e a superfície específica do pó é entre 5 e 300 m^ 2^ /g, é produzido por um processo, no qual halogeneto de silício e halogeneto de alumínio são vaporizados em uma razão particular entre eles e são misturados homogeneamente com ar, oxigênio e hidrogênio em uma unidade de mistura por meio do meu (sic) gás carreador, essa mistura sofre combustão em um queimador de construção conhecida e, após a separação dos sólidos da fase vapor, quaisquer traços de halogeneto possivelmente aderentes ao produto são separados em uma etapa de processamento posterior por meio de ar úmido a uma temperatura elevada. O uso do óxido misto de silício-alumínio produzido por hidrólise por chama de acordo com a reivindicação 1 para a produção de dispersões, que são usadas para polimento, em particular, na indústria eletrônica (CMP).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1894 de 24/04/2007.

06/12/2011

RPI 2135

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª,4ª, 5ª,6ª e 7ª anuidades.

24/04/2007

RPI 1894

Publicação do pedido de patente

#3.1

31/10/2000

RPI 1556

Monitoramento de patentes

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