Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
10/08/2004
RPI 1753
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA TRATAMENTO E LIQUEFAÇÃO DE GÁS NATURAL E ELEVADA PRESSÃO
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0001769Tipo
Patente de Invenção
Depósito
12/05/2000
Publicação
02/01/2001
Andamento no INPI
- Depósito12/05/00
- Publicação02/01/01
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 12/05/2000, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 10/08/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Kvaerner Oil & Gas A.S.
NO
Inventores
C. R. (pessoa física)
NO
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
GB
9911021.5 · 13/05/1999
Resumo técnico
"PROCESSO PARA TRATAMENTO E LIQUEFAÇÃO DE GÁS NATURAL A ELEVADA PRESSÃO" Um processo para tratamento e liquefação de gás natural a pressão elevada inclui um primeiro meio de troca de calor (102, 104, 106), primeiro meio de expansão (108), meio de separação de gás líquido (110), meios de compressão (114), meios de refrigeração (118), um segundo meio de troca de calor (120), um segundo meio de expansão (122) e uma unidade de vaporização de LNG (124). Os gases de vaporização saindo da unidade de vaporização de LNG (124) podem ou ser passados através dos primeiro e segundo trocadores de calor (102, 104, 106, 120), ou desviados para um uso alternativo externo dos gases de vaporização em combinação com a produção de LNG. Os meios de refrigeração podem ser providos por uma unidade de cascata de propano/etileno. Os gases e vaporização podem ser desviados' para uma planta de metanol. Esta planta de metanol pode incluir processos olefínicos adicionais. Os gases de vaporização podem ser também desviados para uma planta de geração de eletricidade.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
16/12/2003
RPI 1719
Publicação do pedido de patente
#3.1
02/01/2001
RPI 1565
Pedido de patente depositado
#2.1
28/11/2000
RPI 1560
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