Dados do pedido
Número
PI0000986Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 03/11/2010 e depois extinta em 17/04/2018. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 17/04/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Nippon Shokubai Co., Ltd.
JP
Inventores
M. U. (pessoa física)
JP
S. N. (pessoa física)
JP
T. N. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
11-54316 · 02/03/1999
Resumo técnico
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE ÁCIDO (MET) ACRÍLICO E/OU ÉSTERES (MET) ACRÍLICOS É fornecido um método para a produção de ácido (met) acrílico e/ou um éster (met) acrílico. Este método para a produção de ácido (met) acrílico e/ou um éster (met) acrílico inclui a lavagem do dispositivo construído para a produção do mesmo com uma solução básica e o subseqüentemente enxágüe do mesmo com um solvente, com a finalidade de retirar substâncias sólidas, tais como polímeros e precipitados, que ocorrem durante a produção de ácido (met) acrílico e/ou um éster (met) acrílico.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2451 de 26-12-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
17/04/2018
RPI 2467
#21.6
Referente à 18ª anuidade.
26/12/2017
RPI 2451
#16.1
03/11/2010
RPI 2078
#9.1
26/01/2010
RPI 2038
#15.11
Alterado da Int. Cl: C07C 57/04; C07C 51/46; C07C 67/54
09/06/2009
RPI 2005
#7.1
09/06/2009
RPI 2005
#3.1
31/10/2000
RPI 1556
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