Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
referente ao despacho publicado na rpi 1954 de 17 - 06 -2008.
21/10/2008
RPI 1972
Dados do pedido
Número
PI0000252Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/10/2008. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Air Products And Chemicals, Inc.
US
Inventores
T. N. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09.246.515 · 09/02/1999
Resumo técnico
PROCESSO E SISTEMA DE CONTROLE DE FLUXO DE GÁS POR ADSORÇÃO POR OSCILAÇÃO DE PRESSÃO. O fluxo de gás entre dois recipientes, cada um dos quais é submetido a mudanças cíclicas em pressão do gás, é controlado por duas válvulas de retenção instaladas em paralelo entre os recipientes. A primeira válvula de retenção permite ao gás fluir do primeiro recipiente ao segundo recipiente quando a pressão diferencial entre os recipiente excede um primeiro valor, e a segunda válvula de retenção permite ao gás fluir do segundo recipiente ao primeiro recipiente quando a pressão diferencial entre os recipientes excede um segundo valor. O processo de controle de fluxo de gás é particularmente útil em processos de adsorção por oscilação de pressão.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
referente ao despacho publicado na rpi 1954 de 17 - 06 -2008.
21/10/2008
RPI 1972
#8.6
referente a 6ª, 7ª e 8ª anuidade
17/06/2008
RPI 1954
#3.1
26/09/2000
RPI 1551
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.