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Dado oficial do INPI

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM FORNALHA PARA AQUECIMENTO DE PROTUDOS POR EXAUSTÃO TÉRMICA

ArquivadaModelo de Utilidade

Dados do pedido

Número

MU9001225

Tipo

Modelo de Utilidade

Depósito

15/07/2010

Publicação

13/11/2012

Andamento no INPI

  1. Depósito15/07/10
  2. Publicação13/11/12
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 15/07/2010, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 29/04/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

L. P. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

L. P. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM FORNALHA PARA AQUECIMENTO DE PRODUTOS POR EXAUSTÃO TÉRMICA. É constituído por uma fornalha para aquecimento de produtos por exaustão térmica (1), que pertence ao campo da engenharia termodinâmica e diferentemente dos modelos convencionais de aquecimento a seco, integra uma câmara primária de combustão (2), de estrutura parabólica, envolta com certa equidistância de suas faces, de modo a formar uma segunda câmara, por uma carenagem (3) de aspecto quadrático, dotada de uma janela de entrada de ar (11) em cada lateral, a qual é encimada por uma sobre-carenagem (12) que forma um maior vão interno, de geometria trapezoidal, cuja maior altura se finaliza, unindo-se ao radiador trocador de calor (5); a carenagem (3), bem como todo o conjunto, são sustentados por quatro pés de apoio (13), alocado em cada vértice inferior; na porção frontal do radiador de exaustão (5) é acopíado um duto exaustor (15).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

29/04/2014

RPI 2260

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

31/12/2013

RPI 2243

Publicação do pedido de patente

#3.1

13/11/2012

RPI 2184

Pedido de patente depositado

#2.1

29/03/2011

RPI 2099

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