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Dado oficial do INPI

ESTAÇÃO DE TRABALHO EM "L" COM DISPOSITIVO DE REGULAGEM DE ALTURA

Arquivada/ExtintaModelo de Utilidade

Dados do pedido

Número

MU9000903

Tipo

Modelo de Utilidade

Depósito

30/06/2010

Publicação

12/06/2012

Andamento no INPI

  1. Depósito30/06/10
  2. Publicação12/06/12
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/09/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Universal Office Ltda

PR, BR

Inventores

V. F. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

ESTAÇÃO DE TRABALHO EM "L" COM DISPOSITIVO DE REGULAGEM DE ALTURA, trata-se de uma estaçao de trabalho em formato de "L" 4com tampo regulável (1), desenvolvida para que o usuário possa posicionar a altura do tampo conforme sua estatura e comodidade. Esse modelo é confeccionado com um tampo em formato de "L" (1A), com entrada ergonâmica ao usuário para melhor comodidade, esse tampo é regulado em sua altura através do giro de uma manivela (10), que aciona um conjunto de mecanismos internos, dotados de roscas sem fim (fusos) (1 1), eixos (9), engrenagens e mais alguns dispositivos perfeitamente sincrônizados, que possibilitam o movimento do tampo com extrema leveza, rapidez, precisão e estabilidade.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2420 de 23-05-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

05/09/2017

RPI 2435

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 7ª anuidade.

23/05/2017

RPI 2420

Publicação do pedido de patente

#3.1

12/06/2012

RPI 2162

Pedido de patente depositado

#2.1

22/02/2011

RPI 2094

Monitoramento de patentes

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