Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
23/07/2013
RPI 2220
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Dado oficial do INPI
DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM CAPA PIRAMIDAL, RETA OU CURVA, ARTICULÁVEL PARA PISCINAS E AMBIENTES DIVERSOS
ArquivadaModelo de Utilidade
Dados do pedido
Número
MU9000103Tipo
Modelo de Utilidade
Depósito
27/01/2010
Publicação
20/09/2011
Andamento no INPI
- Depósito27/01/10
- Publicação20/09/11
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 27/01/2010, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/07/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
G. F. (pessoa física)
SP, BR
Inventores
G. F. (pessoa física)
BR
Dados técnicos
Classificação IPC
Resumo técnico
DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM CAPA PIRAMIDAL, RETA OU CURVA, ARTICULAVEL PARA PISCINAS E AMBIENTES DIVERSOS é constituído por uma capa piramidal articulável para piscinas e ambientes diversos (1), que pertence aocampo dos artigos de piscina; composta por uma estrutura rígida, de perfis tubulares (2) redondos ou quadrados que delineiam as arestas inclinadas de um polígono piramidal, porém sem as arestas de base e, cujo topo de convergência, é equipado com um dispositivo articulável (3); a estrutura rígida é sobreposta por uma cobertura de película polimérica (4) transparente, translúcida, ou tecido, lonas e telas, sendo que na extremidade inferior de cada perfil tubular (2) redondo ou quadrado, há um rodízio para deslocamento, que pode ser livre ou sobre trilho (11); os módulos piramidais se dobram na porção mediana de sua maior altura, de forma a aninharem em camadas sucessivas e de iguais planos triangulares (22).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
30/04/2013
RPI 2208
Publicação do pedido de patente
#3.1
20/09/2011
RPI 2124
Pedido de patente depositado
#2.1
31/08/2010
RPI 2069
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