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Dado oficial do INPI

RESISTÊNCIA TÉRMICA LACRADA E SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO

ArquivadaModelo de Utilidade

Dados do pedido

Número

MU8502674

Tipo

Modelo de Utilidade

Depósito

07/11/2005

Publicação

10/07/2007

Andamento no INPI

  1. Depósito07/11/05
  2. Publicação10/07/07
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 07/11/2005, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 04/05/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

M. C. (pessoa física)

MG, BR

Inventores

M. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

RESISTÊNCIA TÉRMICA LACRADA E SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO A resistência térmica lacrada e seu processo de produção representa um conjunto de quatro camadas, duas externas de acabamento e duas internas onde está a camada da resistência térmica e outra de isolamento, duplamente costuradas com tipos de costuras distintas, encapsulando, a resistência elétrica, em material sintético napa/couro ou similar, produzindo um isolamento físico perfeito, fazendo com que o fio níquel cromo (DS) não encoste entre si independente da dilatação da mesma como o acontecimento, proporcionando um reduzido consumo de energia elétrica e baixo custo final do produto acabado, por que não há a necessidade do uso de termostato, onde a temperatura varia no uso de 30ºC a 50ºC, trazendo uma segurança intrínseca ao usuário. O uso principal desta resistência térmica é para a saúde e estética sendo que está resistência térmica lacrada pode ser acoplada em diversos modelos, tamanhos, cores e medidas de mantas, lençóis, tocas, cintas, perneiras, braços, almofadas, luvas, mascaras, botas, sutiãs e colchões ou colchonetes, térmicos.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

04/05/2010

RPI 2052

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

29/09/2009

RPI 2021

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/07/2007

RPI 1905

Pedido de patente depositado

#2.1

14/02/2006

RPI 1832

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