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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO COM SISTEMA DE REGULAGEM MACRO E MÍCRON NA DIREÇÃO RADIAL, PARA USINAGEM DE FUROS COM ALTA EXATIDÃO

ArquivadaModelo de Utilidade

Dados do pedido

Número

MU8200924

Tipo

Modelo de Utilidade

Depósito

25/04/2002

Publicação

23/12/2003

Andamento no INPI

  1. Depósito25/04/02
  2. Publicação23/12/03
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 25/04/2002, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 02/05/2006. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Y. K. (pessoa física)

PR, BR

Inventores

Y. K. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"DISPOSITIVO COM SISTEMA DE REGULAGEM MACRO E MÍCRON NA DIREÇÃO RADIAL, PARA USINAGEM DE FUROS COM ALTA EXATIDÃO". Integrado pelos elementos descritos, e caracterizado pelo fato do sistema com exatidão de mandrilar furo com regulagem radial macro no pré-setting com divisão do dial (6) de 0,05 mm por traço acoplado do sistema de regulagem radial mícron com divisão do dial (17) de 0,0005 mm por traço, ou seja, 0,001 mm no diâmetro e pelo fato de diferencial movimento de rotação e translação do parafuso bi-fuso (22) 0,02 mm em 360 ser igual 0,0005 multiplicado por quarenta divisões geradas pelas peças dial de arraste (17), parafuso bi-fuso com rasgo (22) mancal (23) e o mancal flange (25) nos módulos segundo e terceiro.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

02/05/2006

RPI 1843

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

25/10/2005

RPI 1816

Publicação do pedido de patente

#3.1

23/12/2003

RPI 1720

Pedido de patente depositado

#2.1

11/06/2002

RPI 1640

Monitoramento de patentes

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