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Dado oficial do INPI

REATOR ELETRÔNICO COM CONTROLE DE POTÊNCIA PARA LÂMPADAS VAPOR DE SÓDIO E MULTIVAPORES METÁLICOS

Em AnáliseModelo de Utilidade

Dados do pedido

Número

MU7802318

Tipo

Modelo de Utilidade

Depósito

05/11/1998

Publicação

06/06/2000

Andamento no INPI

  1. Depósito05/11/98
  2. Publicação06/06/00
  3. Exame
  4. Indeferido11/08/09
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 11/08/2009 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 11/08/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Instituto de Tecnologia Para o Desenvolvimento - LACTEC

PR, BR

Instituto Tecnológico do Lab. Central de Pesq. e Desenvolvimento Lactec.

PR, BR

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Inventores

C. B. (pessoa física)

BR

I. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"REATOR ELETRÔNICO COM CONTROLE DE POTÊNCIA PARA LÂMPADAS VAPOR DE SÓDIO E MULTIVAPORES METÁLICOS", descreve-se a presente patente como um prático, moderno e eficiente reator eletrônico em estado sólido com controle de potência sobre o fluxo luminoso de lâmpadas vapor de sódio e multivapores metálicos com potência de setenta watts e cento e cinqüenta watts para aplicação em iluminação pública em geral, mais especificamente a um aperfeiçoamento ao reator eletrônico para lâmpadas vapor de sódio e multivapores metálicos do mesmo inventor e depositante. A patente em apreço vem inovar com um controle de potência para as lâmpadas vapor de sódio e multivapores metálicos, que mantém estável a potência sobre a lâmpada durante todo o ciclo de funcionamento, permitindo que o fluxo luminoso seja constante durante toda a sua vida útil. Os reatores eletrônicos possuem alto fator de potência, alto rendimento e por trabalhar em alta freqüência, diminui o desgaste dos eletrodos e aumenta a vida útil das lâmpadas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

111

Recorrente: O depositante.@Decisão: Recurso conhecido e negado o provimento. Mantido o indeferimento do pedido.

11/08/2009

RPI 2014

Petição de recurso

#12.2

11/11/2008

RPI 1975

Indeferimento (variante)

#9.2.3

Republicação de indeferimento por não ter sidoentregue ao Requrente a cópia correta do Parecer Técnico, referente a RPI 1941 de 18/03/2008

13/05/2008

RPI 1949

Indeferimento

#9.2

Indefirido com base no artigo 9º combinado com o artigo 14º da LPI.

18/03/2008

RPI 1941

Republicação - classificação IPC

#15.11

Alterada a Classificação de H01F 37/00 para Int.;Cl.8 - H05B 41/288; H05B 41/36

31/07/2007

RPI 1908

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

24/07/2007

RPI 1907

Alteração de nome deferida

#25.4

Alterado de: Instituto Tecnológico do Lab. Central de Pesq. e Desenvolvimento LACTEC

19/09/2000

RPI 1550

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/06/2000

RPI 1535

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