APLICAÇÃO DO RESÍDUO DE JAZINA MICA (ÓXIDO DE SILÍCIO) COMO MATERIAL DE ALTA RELEVÂNCIA ECONÔMICA NA CONSTRUÇÃO CIVIL: SUBSTITUTO DA AREIA DE RIO E VÁRZEA COM SUBSTITUTO DE BAIXO IMPACTO ECOLÓGICO
Modelo de Utilidade APLICAÇÃO DO RESÍDUO DE JAZINA MICA (ÓXIDO DE SILÍCIO) COMO MATERIAL DE ALTA RELEVÂNCIA ECONÔMICA NA CONSTRUÇÃO CIVIL: SUBSTITUTO DA AREIA DE RIO E VÁRZEA COM SUBSTITUTO DE BAIXO IMPACTO ECOLÓGICO — IPC C04B 14/06. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 07/07/2020, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
APLICAÇÃO DO RESÍDUO DE JAZINA MICA (ÓXIDO DE SILÍCIO) COMO MATERIAL DE ALTA RELEVÂNCIA ECONÔMICA NA CONSTRUÇÃO CIVIL. Substituto da Areia de rio e várzea com substituto de baixo impacto ecológico. A produção de placas solares, dispositivos eletrônicos e ópticos que possuem como matéria prima o Silício é de grande importância tecnológica, contudo a purificação dos filossilicatos se torna custosa mediante os vários processos que a mesma precisa passar para ser tornar comercialmente pura, ou seja, com um grau de pureza superior a 99,9%.Esta premissa se faz pela necessidade mundial de produção e comercialização dos derivados de Silício com ênfase para matéria prima principal que é o Oxido de Silício de alta pureza e viabilidade econômica para os seguintes mercados: Química fina, microeletrônica, tecnologia da informação, ligas especiais, cosméticos e plantio. Desta forma esta patente tem como objetivo apresentar uma rota de tratamento térmico e dopagem diferenciada e de menor custo para a produção da Sílica Ultra Pura para aplicação nos dispositivos de alta sensibilidade tecnológica. O uso adequado do resíduo de mica em depósitos do tipo pedra São Tomé é uma nova característica para uso deste material para a substituição parcial ou total de areia ou pó de brita, lançando uma imensurável vantagem ambiental no reuso do material descartado.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
17/10/2023
RPI 2754
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
01/08/2023
RPI 2743
Publicação do pedido de patente
#3.1
18/01/2022
RPI 2663
Pedido de patente depositado
#2.1
03/11/2020
RPI 2600
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
24/09/2020
RPI 2594
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870200084484' em 07/07/2020 14:33 (WB)
