Modelo de Utilidade SISTEMA PARA SEPULTAMENTO EM CEMITÉRIOS VERTICAIS de H & G CONSULTORIA EM ENGENHARIA LTDA - ME — IPC A61G 17/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
A presente invenção refere-se e destina-se a cemitérios do tipo vertical, públicos ou privados. Elaborado após vários anos de pesquisa e benchmarking e concebido sobre um alicerce inovador e arrojado, minimiza de forma sensível os problemas originados pelas necrópoles atuais. Trata-se de um processo construtivo que permite a rápida instalação de lóculos (gavetas) e ossuários de modo a proporcionar brevidade no retorno do investimento para o empreendedor, com a garantia de pleno atendimento à Resolução CONAMA 335/2003, a qual trata das diretrizes para o licenciamento ambiental de cemitérios verticais e horizontais. Por ser um sistema de vanguarda, os equipamentos aqui descritos leva em consideração a utilização de práticas ecologicamente corretas, tanto nas fases de produção e construtiva quanto nos sistemas escolhidos para a execução dos serviços de sepultamento e exumação.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL
05/03/2024
RPI 2774
Indeferimento
#9.2
26/12/2023
RPI 2764
Retificação de publicação
#3.8
Ref. ao despacho 3.1 publicado na RPI2500 de 04/12/2018 em relação ao INID (71) Depositante, considerem-se os dados atuais.
19/12/2023
RPI 2763
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
05/09/2023
RPI 2748
Republicação - classificação IPC
#15.11
As Classificações Anteriores eram: E04H 13/00 , A61G 17/00
29/08/2023
RPI 2747
8.7
20/09/2022
RPI 2698
103
Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Desarquivada a petição e determino o prosseguimento do exame do pedido. [103]
21/12/2021
RPI 2659
Pedido de recurso
#12.3
Recurso: 870210072574 - 09/08/2021
17/08/2021
RPI 2641
11.6.1
Arquivada a petição nº 800200367262 de 11/11/2020 , uma vez que não foi apresentada a procuração devida no prazo de 60 dias contados da prática do ato, conforme art. 216, parágrafo 2º, da LPI. Desta data corre o prazo de 60 dias para eventual recurso do interessado.
22/06/2021
RPI 2633
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
29/09/2020
RPI 2595
Publicação do pedido de patente
#3.1
04/12/2018
RPI 2500
Pedido de patente depositado
#2.1
10/10/2017
RPI 2440
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
15/08/2017
RPI 2432
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
13/06/2017
RPI 2423
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870170031028' em 10/05/2017 21:40 (WB)
