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Dado oficial do INPI

ESTRUTURA SEMICONDUTORA E MÉTODO PARA FABRICAÇÃO DE UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA

IndeferidaModelo de UtilidadePCT · US2013047757

Dados do pedido

Modelo de Utilidade ESTRUTURA SEMICONDUTORA E MÉTODO PARA FABRICAÇÃO DE UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA — IPC H01L 21/336
Modelo de Utilidade ESTRUTURA SEMICONDUTORA E MÉTODO PARA FABRICAÇÃO DE UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA — IPC H01L 21/336. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

122016009112

Tipo

Modelo de Utilidade

Depósito

26/06/2013

Publicação

27/08/2019

PCT

US2013047757

Andamento no INPI

Em recurso
  1. Depósito26/06/13
  2. Publicação27/08/19
  3. Exame
  4. Indeferido23/02/23
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido pelo INPI em 23/02/2023. A invenção não chegou a ser patenteada.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/02/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

I. C. (pessoa física)

US

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Inventores

C. J. (pessoa física)

US

J. Y. (pessoa física)

US

J. P. (pessoa física)

US

W. H. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

A presente invenção refere-se a dispositivos semicondutores não planos que têm aletas autoalinhadas com camadas de bloqueio de topo e métodos para fabricar dispositivos semicondutores não planos que têm aletas autoalinhadas com camadas de bloqueio de topo. Por exemplo, uma estrutura semicondutora inclui uma aleta semicondutora disposta acima de um substrato semicondutor e que tem uma superfície de topo. Uma camada de isolamento é disposta em cada lado da aleta se-micondutora e rebaixada abaixo da superfície de topo da aleta semi-condutora para fornecer uma porção protuberante da aleta semicondu-tora. A porção protuberante tem paredes laterais e a superfície de topo. Uma camada de bloqueio de porta tem uma primeira porção disposta em pelo menos uma porção da superfície de topo da aleta semicondutora, e tem uma segunda porção disposta em pelo menos uma porção das paredes laterais da aleta semicondutora. A primeira porção da camada de bloqueio de porta é contínua com, porém, mais espessa que, a segunda porção da camada de bloqueio de porta. Uma pilha de porta é disposta na primeira e na segunda porções da camada de bloqueio de porta.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento

#9.2

23/02/2023

RPI 2720

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

11/10/2022

RPI 2701

Exigência preliminar

#6.21

17/05/2022

RPI 2680

Publicação do pedido de patente

#3.1

27/08/2019

RPI 2538

Notificação de pedido dividido

#2.4

08/08/2017

RPI 2431

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Protocolo nº 870160015305, em 25/04/2016; 10:30 (WB); Dividido do PCT BR 11 2015 029842-7

10/05/2016

RPI 2366

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