Dado oficial do INPI

CÂMARA DE REAÇÃO DE EQUIPAMENTO DE PROCESSAMENTO DE SEMICONDUTORES E EQUIPAMENTO DE PROCESSAMENTO DE SEMICONDUTORES

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · CN2024084288

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Dados do pedido

Número

112025020654

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/03/2024

Publicação

18/08/2026

PCT

CN2024084288

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Andamento no INPI

Exame ainda não requerido

Depósito28/03/24
Publicação
Exame
Deferimento
Concessão
Em vigor

O exame técnico ainda não foi requerido. Sem esse requerimento até 28/03/2027, o pedido é arquivado em definitivo (art. 33 da LPI).

Prazo para requerer o exame:28/03/2027(faltam 216 dias)

Última movimentação publicada pelo INPI: 18/08/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.

Inventores

L. M. (pessoa física)

M. Y. (pessoa física)

Y. L. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

C23C 16/513 H01L 21/67

Prioridades unionistas

202310327639.X · 29/03/2023

Resumo técnico

CÂMARA DE REAÇÃO DE EQUIPAMENTO DE PROCESSAMENTO DE SEMICONDUTORES E EQUIPAMENTO DE PROCESSAMENTO DE SEMICONDUTORES. A presente invenção fornece uma câmara de reação de um equipamento de processamento de semicondutores e um equipamento de processamento de semicondutores, relacionada ao campo técnico de equipamentos de fabricação de semicondutores, e foi projetada para solucionar o problema de anéis de vedação facilmente danificados em estruturas de vedação de câmaras de reação existentes. A câmara de reação do equipamento de processamento de semicondutores inclui um tubo de processo, um flange de vedação e um anel de vedação. A parede externa do tubo de processo é provida de uma saliência anular, sendo a superfície da saliência anular próxima à abertura do tubo de processo coplanar com o plano radial onde a abertura se encontra; a flange de vedação é provida em um lado da saliência anular próxima à abertura; o anel de vedação circunda a abertura e é pressionado entre o flange de vedação e a saliência anular; a flange de vedação e o tubo de processo são dispostos de forma relativamente fixa. A presente invenção torna o anel de vedação da estrutura de vedação da câmara de reação menos suscetível a danos.