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Dado oficial do INPI

MÉTODO E DISPOSITIVO PARA MONITORAR E CONTROLAR O DESEMPENHO DE UMA FONTE DE ÍONS

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · DE2023100616

Dados do pedido

Patente de Invenção MÉTODO E DISPOSITIVO PARA MONITORAR E CONTROLAR O DESEMPENHO DE UMA FONTE DE ÍONS de BRUKER DALTONICS GMBH & CO. KG — IPC G01N 27/626
Patente de Invenção MÉTODO E DISPOSITIVO PARA MONITORAR E CONTROLAR O DESEMPENHO DE UMA FONTE DE ÍONS de BRUKER DALTONICS GMBH & CO. KG — IPC G01N 27/626. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

112025002821

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

24/08/2023

Publicação

22/07/2025

PCT

DE2023100616

Andamento no INPI

  1. Depósito24/08/23
  2. Publicação
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Patente de Invenção (via PCT) depositado no INPI em 24/08/2023. Aguarda exame formal e publicação na RPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 22/07/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

BRUKER DALTONICS GMBH & CO. KG

DE

Inventores

K. K. (pessoa física)

DE

S. B. (pessoa física)

DE

T. M. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

DE

10 2022 123 559.9 · 15/09/2022

Resumo técnico

MÉTODO E DISPOSITIVO PARA MONITORAR E CONTROLAR O DESEMPENHO DE UMA FONTE DE ÍONS. A invenção se refere a um método e a um aparelho para monitorar e controlar o desempenho de uma fonte de íons, compreendendo: (a) ionizar de forma assistida por laser uma amostra de controle, cuja composição é substancialmente conhecida, e que é amostrada antes, paralelamente ou depois de uma amostra analítica, (b) gerar dados de amostra de controle espectral da amostra de controle ionizada em um analisador de íons conectado à fonte de íons, (c) repetir as etapas (a) e (b) em uma infinidade de amostras de controle para coletar uma infinidade de dados de amostra de controle espectral e avaliá-los de modo que os dados espectrais de amostras de controle individuais tenham baixo peso e uma tendência de desempenho apareça na avaliação, (d) ajustar um parâmetro operacional do laser da fonte de íons se a tendência de desempenho entrar em uma faixa fora de um intervalo de desempenho predefinido, para colocar o laser em conformidade com o intervalo, e (e) repetir as etapas (a) a (d) para monitoramento e controle contínuos da fonte de íons.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

22/07/2025

RPI 2846

Alteração de dados cadastrais

#1.1

25/02/2025

RPI 2825

Monitoramento de patentes

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