Patente de Invenção DISPOSITIVO PARA FORNECER PLASMA, MECANISMO PARA TRATAMENTO TÉRMICO DE UM MATERIAL E MÉTODO PARA OPERAR O DITO DISPOSITIVO de THERMAL PROCESSING SOLUTIONS GMBH — IPC H01J 37/32. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
DISPOSITIVO PARA FORNECER PLASMA, MECANISMO PARA TRATAMENTO TÉRMICO DE UM MATERIAL E MÉTODO PARA OPERAR O DITO DISPOSITIVO. A invenção se refere a um dispositivo (6) para fornecer um plasma que compreende pelo menos um elemento gerador de plasma (8), no qual ou sobre o qual pelo menos uma bobina de indução elétrica (10) e/ou um magnétron estão dispostos, e no qual um primeiro canal de escoamento (11) e um segundo canal de escoamento (12), disposto concentricamente a ele, estão adicionalmente dispostos, em que o segundo canal de escoamento (12) envolve o primeiro canal de escoamento (11) pelo menos em seções, e o primeiro canal de escoamento (11) está conectado por escoamento, com uma primeira conexão (16) para um fluido gasoso, para formar um fluxo de gás aquecido ou fluxo de plasma, e o segundo canal de escoamento (12) está conectado por escoamento, com uma segunda conexão (17) para um fluido gasoso, para formar um fluxo volumétrico de proteção entre uma superfície (14) do elemento gerador de plasma (8) e o fluxo de gás aquecido ou fluxo de plasma.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
