Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
30/06/2026
RPI 2895
Dados do pedido
Número
112024026261Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2023066287 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 16/06/2023, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 30/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
G. A. (pessoa física)
DK
Inventores
L. J. (pessoa física)
DK
S. F. (pessoa física)
DK
T. L. (pessoa física)
DK
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
22179612.1 · 17/06/2022
Resumo técnico
SISTEMA DE DISTRIBUIÇÃO DE GÁS OTIMIZADO. É fornecido um sistema de distribuição de gás (100), um sistema de válvula e um método para otimização do uso de gás residual em um sistema de distribuição de gás. O sistema de distribuição de gás (100) compreendendo; um primeiro (5) e um segundo (6) recipientes de gás para suprimento de gás; uma válvula de pelo menos três vias (11) em comunicação fluida com o primeiro e o segundo recipientes de gás (5, 6), a válvula (11) sendo operável para alterar de posição entre uma primeira posição de válvula, em que o gás é suprido a partir do primeiro recipiente (5) e uma segunda posição de válvula, em que o gás é suprido a partir do segundo recipiente (6), um dispositivo sensor (31) adaptado para medir uma primeira propriedade sensoriada a partir do primeiro recipiente de gás, uma unidade de controle (32) configurada para receber a primeira propriedade sensoriada a partir do dispositivo sensor (31), e sendo adaptada para alterar a posição da referida válvula (11) da primeira posição de válvula para a segunda posição de válvula com base na referida primeira propriedade sensoriada; em que a unidade de controle (32) é adaptada para manter a válvula (11) na segunda posição de válvula por um período de tempo de revaporização, o referido período de revaporização sendo predefinido e/ou baseado em uma segunda propriedade sensoriada a partir do dispositivo sensor (31), em que a unidade de controle (32) é adicionalmente adaptada para alterar a posição da válvula (11) de volta para a primeira posição de válvula após o período de revaporização.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1
30/06/2026
RPI 2895
#1.3
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#1.1
04/02/2025
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