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Dado oficial do INPI

SISTEMA DE DISTRIBUIÇÃO DE GÁS OTIMIZADO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2023066287

Dados do pedido

Patente de Invenção SISTEMA DE DISTRIBUIÇÃO DE GÁS OTIMIZADO — IPC F17C 13/04
Patente de Invenção SISTEMA DE DISTRIBUIÇÃO DE GÁS OTIMIZADO — IPC F17C 13/04. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

112024026261

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

16/06/2023

Publicação

27/05/2025

PCT

EP2023066287

Andamento no INPI

  1. Depósito16/06/23
  2. Publicação27/05/25
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 16/06/2023, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 30/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

G. A. (pessoa física)

DK

Inventores

L. J. (pessoa física)

DK

S. F. (pessoa física)

DK

T. L. (pessoa física)

DK

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

EP

22179612.1 · 17/06/2022

Resumo técnico

SISTEMA DE DISTRIBUIÇÃO DE GÁS OTIMIZADO. É fornecido um sistema de distribuição de gás (100), um sistema de válvula e um método para otimização do uso de gás residual em um sistema de distribuição de gás. O sistema de distribuição de gás (100) compreendendo; um primeiro (5) e um segundo (6) recipientes de gás para suprimento de gás; uma válvula de pelo menos três vias (11) em comunicação fluida com o primeiro e o segundo recipientes de gás (5, 6), a válvula (11) sendo operável para alterar de posição entre uma primeira posição de válvula, em que o gás é suprido a partir do primeiro recipiente (5) e uma segunda posição de válvula, em que o gás é suprido a partir do segundo recipiente (6), um dispositivo sensor (31) adaptado para medir uma primeira propriedade sensoriada a partir do primeiro recipiente de gás, uma unidade de controle (32) configurada para receber a primeira propriedade sensoriada a partir do dispositivo sensor (31), e sendo adaptada para alterar a posição da referida válvula (11) da primeira posição de válvula para a segunda posição de válvula com base na referida primeira propriedade sensoriada; em que a unidade de controle (32) é adaptada para manter a válvula (11) na segunda posição de válvula por um período de tempo de revaporização, o referido período de revaporização sendo predefinido e/ou baseado em uma segunda propriedade sensoriada a partir do dispositivo sensor (31), em que a unidade de controle (32) é adicionalmente adaptada para alterar a posição da válvula (11) de volta para a primeira posição de válvula após o período de revaporização.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

30/06/2026

RPI 2895

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

27/05/2025

RPI 2838

Alteração de dados cadastrais

#1.1

04/02/2025

RPI 2822

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