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Dado oficial do INPI

ANTENA DE VARREDURA DE FEIXE HABILITADA POR METAMATERIAL

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · GB2023050528

Dados do pedido

Patente de Invenção ANTENA DE VARREDURA DE FEIXE HABILITADA POR METAMATERIAL — IPC H01Q 13/28
Patente de Invenção ANTENA DE VARREDURA DE FEIXE HABILITADA POR METAMATERIAL — IPC H01Q 13/28. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

112024019196

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

07/03/2023

Publicação

24/12/2024

PCT

GB2023050528

Andamento no INPI

  1. Depósito07/03/23
  2. Publicação24/12/24
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 07/03/2023, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 02/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

T. B. (pessoa física)

GB

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Inventores

A. F. (pessoa física)

GB

J. C. (pessoa física)

GB

M. R. (pessoa física)

GB

Dados técnicos

Prioridades unionistas

GB

2203793.1 · 18/03/2022

Resumo técnico

ANTENA DE VARREDURA DE FEIXE HABILITADA POR METAMATERIAL. É divulgado um dispositivo de antena de onda com vazamento que compreende uma primeira metassuperfície que compreende um primeiro substrato dielétrico tendo um primeiro arranjo de elementos condutores e uma segunda metassuperfície que compreende um segundo substrato dielétrico tendo um segundo arranjo de elementos condutores. O dispositivo de antena compreende adicionalmente um plano de aterramento condutivo, um microatuador, e uma alimentação que compreende um par de dipolos comutáveis. A primeira e a segunda metassuperfícies e o plano de aterramento condutivo estão em um arranjo empilhado e substancialmente paralelos entre si, com a primeira metassuperfície localizada entre a segunda metassuperfície e o plano de aterramento condutivo. Um espaçamento entre o plano de aterramento condutivo e a primeira metassuperfície é ajustável pela operação do microatuador. A alimentação é disposta entre a primeira e a segunda metassuperfícies em um local correspondente ao centro do primeiro e segundo arranjos. O dispositivo de antena de onda com vazamento pode ser operado para direcionar um feixe em uma ampla faixa por meio da energização seletiva do par de dipolos e do ajuste do espaçamento entre o plano de aterramento condutivo e a primeira metassuperfície.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

02/06/2026

RPI 2891

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

17/03/2026

RPI 2880

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

24/12/2024

RPI 2816

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/10/2024

RPI 2804

Monitoramento de patentes

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