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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA EXTRAÇÃO EFICIENTE E DE BAIXO CARBONO DE SIO2 DE ALTA PUREZA A PARTIR DE REFUGOS DE HEMATITA DE ALTO TEOR DE SILÍCIO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · CN2022115158

Dados do pedido

Número

112024000392

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/08/2022

Publicação

02/04/2024

PCT

CN2022115158

Andamento no INPI

  1. Depósito26/08/22
  2. Publicação02/04/24
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 26/08/2022, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 18/11/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

ANSTEEL GROUP MINING CORPORATION LIMITED

CN

Inventores

C. G. (pessoa física)

CN

H. Z. (pessoa física)

CN

J. L. (pessoa física)

CN

L. X. (pessoa física)

CN

P. G. (pessoa física)

CN

Q. C. (pessoa física)

CN

S. L. (pessoa física)

CN

S. L. (pessoa física)

CN

W. L. (pessoa física)

CN

X. P. (pessoa física)

CN

X. M. (pessoa física)

CN

X. Y. (pessoa física)

CN

Y. F. (pessoa física)

CN

Y. L. (pessoa física)

CN

Y. Y. (pessoa física)

CN

Z. D. (pessoa física)

CN

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

CN

202210987691.3 · 17/08/2022

Resumo técnico

MÉTODO PARA EXTRAÇÃO EFICIENTE E DE BAIXO CARBONO DE SIO2 DE ALTA PUREZA A PARTIR DE REFUGOS DE HEMATITA DE ALTO TEOR DE SILÍCIO.A presente invenção se refere a um método para extração eficiente e de baixo teor de carbono de SiO2 de alta pureza a partir de refugos de hematita de alto teor de silício: preparação de uma polpa (concentração de 20-80 kg/m3), adição de um dispersante, seguido por dispersão ultrassônica por 1-4 minutos sob a condição de uma energia ultrassônica de 70-200 W para as partículas de quartzo e impurezas na polpa serem efetivamente dispersas; separação magnética de alto gradiente de supercondução fraca/forte da polpa; resfriamento rápido com água após ustulação do pulverizado de quartzo refinado grosso obtido da separação magnética (700-900°C por 4-6 horas), de modo que ocorram rachaduras na superfície de quartzo e íons de impureza sejam expostos para a superfície; lixiviação ácida do pulverizado de quartzo refinado?grosso, obtido através de rápido resfriamento com água, duas vezes para purificação fina, e obtenção de SiO2 de alta pureza com o teor de massa de SiO2 maior ou igual a 99% após a lixiviação ácida. São superados os defeitos incluindo defeitos técnicos tais como processo tecnológico complexo, poluição ambiental, e alto custo de operação na preparação de SiO2 de alta pureza, e alcança alto valor de utilização e reciclagem de componentes úteis em refugos de hematita de alto teor de silício. O SiO2 de alta pureza preparado pode aliviar efetivamente a deficiência de fontes minerais de quartzo de alto teor de sílica na China.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

18/11/2025

RPI 2863

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/09/2025

RPI 2852

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/04/2024

RPI 2778

Alteração de dados cadastrais

#1.1

19/03/2024

RPI 2776

Monitoramento de patentes

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