Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
18/11/2025
RPI 2863
Dados do pedido
Número
112024000392Tipo
Depósito
Publicação
PCT
CN2022115158 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 26/08/2022, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/11/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
ANSTEEL GROUP MINING CORPORATION LIMITED
CN
Inventores
C. G. (pessoa física)
CN
H. Z. (pessoa física)
CN
J. L. (pessoa física)
CN
L. X. (pessoa física)
CN
P. G. (pessoa física)
CN
Q. C. (pessoa física)
CN
S. L. (pessoa física)
CN
S. L. (pessoa física)
CN
W. L. (pessoa física)
CN
X. P. (pessoa física)
CN
X. M. (pessoa física)
CN
X. Y. (pessoa física)
CN
Y. F. (pessoa física)
CN
Y. L. (pessoa física)
CN
Y. Y. (pessoa física)
CN
Z. D. (pessoa física)
CN
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CN
202210987691.3 · 17/08/2022
Resumo técnico
MÉTODO PARA EXTRAÇÃO EFICIENTE E DE BAIXO CARBONO DE SIO2 DE ALTA PUREZA A PARTIR DE REFUGOS DE HEMATITA DE ALTO TEOR DE SILÍCIO.A presente invenção se refere a um método para extração eficiente e de baixo teor de carbono de SiO2 de alta pureza a partir de refugos de hematita de alto teor de silício: preparação de uma polpa (concentração de 20-80 kg/m3), adição de um dispersante, seguido por dispersão ultrassônica por 1-4 minutos sob a condição de uma energia ultrassônica de 70-200 W para as partículas de quartzo e impurezas na polpa serem efetivamente dispersas; separação magnética de alto gradiente de supercondução fraca/forte da polpa; resfriamento rápido com água após ustulação do pulverizado de quartzo refinado grosso obtido da separação magnética (700-900°C por 4-6 horas), de modo que ocorram rachaduras na superfície de quartzo e íons de impureza sejam expostos para a superfície; lixiviação ácida do pulverizado de quartzo refinado?grosso, obtido através de rápido resfriamento com água, duas vezes para purificação fina, e obtenção de SiO2 de alta pureza com o teor de massa de SiO2 maior ou igual a 99% após a lixiviação ácida. São superados os defeitos incluindo defeitos técnicos tais como processo tecnológico complexo, poluição ambiental, e alto custo de operação na preparação de SiO2 de alta pureza, e alcança alto valor de utilização e reciclagem de componentes úteis em refugos de hematita de alto teor de silício. O SiO2 de alta pureza preparado pode aliviar efetivamente a deficiência de fontes minerais de quartzo de alto teor de sílica na China.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
18/11/2025
RPI 2863
#11.1
02/09/2025
RPI 2852
#1.3
02/04/2024
RPI 2778
#1.1
19/03/2024
RPI 2776
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