Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 20/10/2021, observadas as condições legais
05/05/2026
RPI 2887
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Dado oficial do INPI
ESTRUTURA SEMICONDUTORA E MÉTODO PARA FORMAR UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA INCLUINDO CONTATOS ENVOLVENTES
ConcedidaPatente de InvençãoPCT · CN2021124804
Dados do pedido
Número
112023010283Tipo
Patente de Invenção
Depósito
20/10/2021
Publicação
27/06/2023
PCT
CN2021124804 Andamento no INPI
- Depósito20/10/21
- Publicação27/06/23
- Exame
- Deferimento07/04/26
- Concessão05/05/26
- Em vigor20/10/41
Patente concedida em 05/05/2026 e em vigor até 20/10/2041. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:20/10/2041
Última movimentação publicada pelo INPI: 05/05/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
I. C. (pessoa física)
US
Inventores
A. G. (pessoa física)
US
E. M. (pessoa física)
US
J. F. (pessoa física)
US
Y. M. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
17/124,458 · 16/12/2020
Resumo técnico
ESTRUTURA SEMICONDUTORA E MÉTODO PARA FORMAR UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA INCLUINDO CONTATOS ENVOLVENTES. Um revestimento metálico depositado conformemente usado para formar estruturas de contato envolventes discretas está localizado entre pares de estruturas de portão e abaixo dos topos das estruturas de portão. O padrão de máscara de bloco é empregado para proteger os transistores sobre as regiões ativas de um substrato enquanto as porções do revestimento metálico entre as regiões ativas são removidas. Uma técnica de chanfradura é empregada para remover seletivamente outras porções do revestimento metálico dentro das regiões ativas. Revestimentos de silicieto metálico formados nas regiões de fonte/dreno usando o revestimento metálico depositado de forma conformada são eletricamente conectados ao metal de contato de fonte/dreno após a deposição e padronização de uma camada dielétrica e subsequente metalização.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
07/04/2026
RPI 2883
Parecer de pré-exame
#6.23
14/10/2025
RPI 2858
Retificação da notificação da fase nacional - PCT
#1.3.1
Retificado o item (54)
25/07/2023
RPI 2742
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
27/06/2023
RPI 2738
Alteração de dados cadastrais
#1.1
06/06/2023
RPI 2735
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