Parecer de pré-exame
#6.23
19/12/2023
RPI 2763
Dados do pedido
Número
112023005206Tipo
Depósito
Publicação
PCT
CN2020116530 O INPI emitiu parecer técnico sobre a patenteabilidade. O depositante tem de se manifestar para o exame prosseguir.
Última movimentação publicada pelo INPI: 19/12/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
ANHUI JINHE INDUSTRIAL CO., LTD.
CN
Inventores
C. C. (pessoa física)
CN
C. W. (pessoa física)
CN
D. S. (pessoa física)
CN
X. S. (pessoa física)
CN
Y. C. (pessoa física)
CN
Classificação IPC
Resumo técnico
MÉTODO PARA REFINAR ACESULFAME DE POTÁSSIO.É fornecido um método para refinar acessulfame de potássio (Ace K), incluindo: adicionar peróxido de hidrogênio e carvão ativado a um produto bruto Ace K contendo solução para obter uma mistura, manter a mistura em uma primeira temperatura predefinida por um primeiro tempo predefinido e filtrar a mistura para obter um licor mãe Ace K; conduzir a concentração no licor mãe Ace K a uma concentração predefinida para obter uma solução concentrada, permitindo que a solução concentrada permaneça em uma segunda temperatura predefinida por um segundo tempo predefinido para formar um núcleo de cristal Ace K e obter uma solução contendo núcleo de cristal; conduzir o congelamento programado no núcleo do cristal contendo a solução para obter uma solução com um grande número de cristais de Ace K; e realização de centrifugação, lavagem com água e secagem na solução com um grande número de cristais Ace K para obter um produto de cristal Ace K. A presente divulgação tem os seguintes efeitos benéficos: ao controlar o processo e a tecnologia de cristalização, um produto de cristalização de alta qualidade e alta pureza é obtido com um menor teor de impurezas, e a pureza e a qualidade do cristal Ace K são significativamente melhoradas; além disso, o método de refino do Ace K possui um processo simples, condições suaves e controláveis e baixa exigência de equipamentos e habilidades de pessoal, o que é extremamente adequado para produção industrial em larga escala.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#6.23
19/12/2023
RPI 2763
#1.3
30/05/2023
RPI 2734
#1.1
28/03/2023
RPI 2725
Monitoramento de patentes
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