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Dado oficial do INPI

APARELHO DE PURIFICAÇÃO QUE PURIFICA CRISTAIS, MÉTODO PARA PRODUZIR UM COMPOSTO E MÉTODO PARA PURIFICAR UM COMPOSTO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · JP2021033034

Dados do pedido

Número

112023004299

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/09/2021

Publicação

04/04/2023

PCT

JP2021033034

Andamento no INPI

  1. Depósito08/09/21
  2. Publicação04/04/23
  3. Exame
  4. Deferimento01/10/24
  5. Concessão12/11/24
  6. Em vigor08/09/41

Patente concedida em 12/11/2024 e em vigor até 08/09/2041. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:08/09/2041

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/11/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.

JP

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Inventores

H. W. (pessoa física)

JP

M. M. (pessoa física)

JP

Y. T. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2020-153286 · 11/09/2020

JP

2021-001398 · 07/01/2021

Resumo técnico

APARELHO DE PURIFICAÇÃO. A presente invenção refere-se a um método para a obtenção de produtos de alta qualidade. O aparelho de purificação de acordo com a presente invenção serve para a purificação de cristais. O aparelho de purificação é configurado para incluir: uma coluna de lavagem hidráulica provida com uma porta de descarga para uma pasta circulante que inclui cristais e uma porta de retorno para um líquido circulante descarregado que inclui um líquido em fusão de cristais; uma tubulação para introduzir uma pasta que contém cristais na coluna de lavagem hidráulica; um filtro para filtrar a pasta que contém cristais na coluna de lavagem hidráulica; uma tubulação que é conectada ao filtro e que serve para a descarga de um licor mãe; e um equipamento para fundir os cristais incluídos na pasta circulante descarregada através da porta de descarga. A distância entre uma extremidade inferior do filtro e uma altura média da superfície inferior da coluna de lavagem hidráulica é de 1.000 mm ou mais.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 08/09/2021, observadas as condições legais

12/11/2024

RPI 2810

Deferimento

#9.1

01/10/2024

RPI 2804

Parecer de pré-exame

#6.23

14/05/2024

RPI 2784

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/04/2023

RPI 2726

Alteração de dados cadastrais

#1.1

21/03/2023

RPI 2724

Monitoramento de patentes

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