Petição de recurso
#12.2
Recurso: Petição 870260045230, de 13/05/2026
26/05/2026
RPI 2890
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Dado oficial do INPI
DISPOSITIVO
Em AnálisePatente de InvençãoPCT · IB2020058565
Dados do pedido
Número
112023002739Tipo
Patente de Invenção
Depósito
15/09/2020
Publicação
21/03/2023
PCT
IB2020058565 Andamento no INPI
Em recurso- Depósito15/09/20
- Publicação21/03/23
- Exame
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
O pedido está em fase de recurso: o INPI ainda vai rever a decisão.
Última movimentação publicada pelo INPI: 26/05/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
ARCELORMITTAL
LU
Inventores
D. S. (pessoa física)
FR
E. I. (pessoa física)
FR
J. D. (pessoa física)
FR
Dados técnicos
Resumo técnico
DISPOSITIVO.O dispositivo para injetar um gás redutor em um forno de cuba compreendendo um invólucro externo cuja face frontal é provida de uma saída para injeção de gás no forno de cuba, um invólucro interno localizado dentro do invólucro externo onde circula o gás redutor. O invólucro interno possui uma abertura correspondente à saída de injeção de gás da face frontal do invólucro externo. A face frontal do invólucro externo compreende uma parte superior e uma parte inferior e a saída de injeção de gás está na parte inferior e para dentro da parte superior.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Indeferimento
#9.2
17/03/2026
RPI 2880
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
02/09/2025
RPI 2852
Parecer de pré-exame
#6.23
12/11/2024
RPI 2810
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
21/03/2023
RPI 2724
Alteração de dados cadastrais
#1.1
28/02/2023
RPI 2721
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