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Dado oficial do INPI

ARTIGO REVESTIDO COM REVESTIMENTO DE BAIXA EMISSIVIDADE TENDO UMA CAMADA DE CONTATO PROTETORA QUE INCLUI AG, NI E CR PARA PROTEGER A(S) CAMADA(S) REFLETORA(S) DE IV À BASE DE PRATA E MÉTODO PARA PRODUZIR O MESMO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · IB2020061100

Dados do pedido

Número

112022008478

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

24/11/2020

Publicação

12/07/2022

PCT

IB2020061100

Andamento no INPI

  1. Depósito24/11/20
  2. Publicação12/07/22
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 24/11/2020, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/02/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

GUARDIAN EUROPE S.A.R.L.

LU

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Inventores

A. D. (pessoa física)

LU

B. D. (pessoa física)

LU

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

16/696,123 · 26/11/2019

Resumo técnico

ARTIGO REVESTIDO COM REVESTIMENTO DE BAIXA EMISSIVIDADE TENDO UMA CAMADA DE CONTATO PROTETORA QUE INCLUI AG, NI E CR PARA PROTEGER A(S) CAMADA(S) REFLETORA(S) DE IV À BASE DE PRATA E MÉTODO PARA PRODUZIR O MESMO. Esta invenção se refere a um artigo revestido que inclui um revestimento de baixa emissividade (baixa E) suportado por um substrato vítreo. O revestimento de baixa emissividade inclui ao menos uma camada (ou camadas) refletora de infravermelho (IV) à base de prata (Ag) que é fornecida adjacente a, e em contato com, ao menos uma camada de contato de, ou incluindo, Ag, Ni e Cr. Descobriu-se que o fornecimento de uma camada de contato incluindo ao menos Ag, Ni e Cr, diretamente sobre, e em contato com, uma camada refletora de IV à base de prata, aumenta vantajosamente a transmissão visível (Tvis) do revestimento de baixa emissividade. Esse revestimento de baixa E pode ser usado em aplicações como em janelas monolíticas, unidades de janelas de vidro insulado (IG) e similares.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

20/02/2024

RPI 2772

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

05/12/2023

RPI 2761

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/07/2022

RPI 2688

Alteração de dados cadastrais

#1.1

10/05/2022

RPI 2679

Monitoramento de patentes

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