(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA PRODUZIR UM GÁS E DISPOSITIVO DE PRODUÇÃO DE GÁS

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · EP2020080069

Dados do pedido

Número

112022007815

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/10/2020

Publicação

05/07/2022

PCT

EP2020080069

Andamento no INPI

  1. Depósito26/10/20
  2. Publicação05/07/22
  3. Exame
  4. Deferimento27/01/26
  5. Concessão31/03/26
  6. Em vigor26/10/40

Patente concedida em 31/03/2026 e em vigor até 26/10/2040. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:26/10/2040

Deixe seu contato e avisamos você

Acompanhamos as publicações do INPI e avisamos assim que houver movimentação neste processo.

Usamos seus dados apenas para este aviso.

Última movimentação publicada pelo INPI: 31/03/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

MEMBION GMBH

DE

Inventores

D. V. (pessoa física)

DE

K. V. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

DE

10 2019 129 074.0 · 28/10/2019

Resumo técnico

MÉTODO PARA PRODUZIR UM GÁS E DISPOSITIVO DE PRODUÇÃO DE GÁS.A presente invenção fornece um método para introduzir um gás (1) em um líquido (2), o método compreendendo: encher um volume de gás (6) arranjado abaixo de uma superfície (4) do líquido (2) e definido em uma direção para baixo por um nível (5) do líquido (2) com o gás (1) em pulsos sequenciais em que o gás (1) simultaneamente desloca o líquido (2) do topo para a base a partir de um canal de elevação de gás (14, 25, 30, 46, 57, 70) até o nível (5) cair abaixo de uma seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) de um canal de saída do fluxo de gás (13, 29, 42, 53, 73); subsequentemente fluir o gás (1) para fora do volume de gás (6) para baixo através do canal de elevação de gás (14, 25, 30, 46, 57, 70), uma parte de deflexão (11, 45, 56, 71) adjacente a uma base do canal de elevação de gás, na direção para cima através da seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) e através de um canal de saída do fluxo de gás (13, 29, 42, 53, 73) adjacente à seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) em um topo até a superfície (4), em que um fluxo de bloqueio (18) do líquido flui através de uma entrada de compensação (17, 21, 33, 48, 62, 75) abaixo da entrada de elevação de gás (16, 32, 60, 69) até a seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) e é puxado ao longo pelo gás (1) até o líquido (2) encher a parte de deflexão (11, 45, 56, 71) e, desse modo, fecha a seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) para o gás (1). A invenção também se refere a um dispositivo de introdução de gás (3) incluindo uma cavidade de coleta de gás aberta para baixo (7) para realizar o método de acordo com a invenção. A fim de garantir que o dispositivo de introdução de gás pulse de uma maneira estável em uma ampla faixa de variação da alimentação do fluxo do volume de gás, é proposto um método em que o gás (1) inicialmente flui apenas através do canal de saída de gás (13, 29, 42, 53, 73) depois que o nível (5) tiver caído abaixo da seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) até o nível (5) subir acima da entrada de compensação (17, 21, 33, 48, 62, 75), e, apenas então, o fluxo de bloqueio (18) corre através da entrada de compensação (17, 21, 33, 48, 62, 75) até a seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 26/10/2020, observadas as condições legais

31/03/2026

RPI 2882

Deferimento

#9.1

27/01/2026

RPI 2873

Parecer de pré-exame

#6.23

09/04/2024

RPI 2779

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/07/2022

RPI 2687

Alteração de dados cadastrais

#1.1

03/05/2022

RPI 2678

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.