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Dado oficial do INPI

SISTEMAS E MÉTODOS PARA TRATAR UM SUBSTRATO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2020045629

Dados do pedido

Número

112022006652

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/08/2020

Publicação

12/07/2022

PCT

US2020045629

Andamento no INPI

  1. Depósito10/08/20
  2. Publicação12/07/22
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 07/11/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

PPG INDUSTRIES OHIO, INC.

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

E. B. (pessoa física)

US

J. M. (pessoa física)

US

K. A. (pessoa física)

US

K. K. (pessoa física)

US

M. M. (pessoa física)

US

R. H. (pessoa física)

US

S. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

62/913,482 · 10/10/2019

Resumo técnico

SISTEMAS E MÉTODOS PARA TRATAR UM SUBSTRATO. São divulgados no presente documento sistemas e métodos para tratar um substrato de metal. O sistema inclui uma primeira composição de pré-tratamento que compreende um ácido fluorometálico e fluoreto livre e que tem um pH de 1,0 a 4,0 e uma segunda composição de pré-tratamento que compreende um metal do Grupo IVB ou um terceiro pré-tratamento que compreende um metal da série de lantanídeos e um agente oxidante. O método inclui colocar pelo menos uma porção de uma superfície do substrato em contato com a primeira composição de pré-tratamento e, opcionalmente, colocar pelo menos uma porção da superfície do substrato em contato com a segunda composição de pré-tratamento ou a terceira composição de pré-tratamento. Também são divulgados substratos tratados com um dos sistemas ou métodos. Também são divulgados substratos de magnésio ou liga de magnésio que compreendem uma bicamada que compreende uma primeira camada que compreende silício e uma segunda camada que compreende fluoreto.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2741 de 18-07-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/11/2023

RPI 2757

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

18/07/2023

RPI 2741

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/07/2022

RPI 2688

Alteração de dados cadastrais

#1.1

19/04/2022

RPI 2676

Monitoramento de patentes

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