Dado oficial do INPI

DISPOSIÇÕES DE CONDUTO DE DOSAGEM PARA SISTEMA DE PÓS-TRATAMENTO DE ESCAPE

Em ExigênciaPatente de InvençãoPCT · US2020040264

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Dados do pedido

Número

112022000146

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

30/06/2020

Publicação

22/02/2022

PCT

US2020040264

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Andamento no INPI

Parecer técnico a responder

Depósito30/06/20
Publicação22/02/22
Exame
Deferimento
Concessão
Em vigor

O INPI emitiu parecer técnico sobre a patenteabilidade. O depositante tem de se manifestar para o exame prosseguir.

Última movimentação publicada pelo INPI: 28/05/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

DONALDSON COMPANY, INC.

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Inventores

D. L. (pessoa física)

K. R. (pessoa física)

M. B. (pessoa física)

M. W. (pessoa física)

T. T. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

F01N 13/08 F01N 3/20 F01N 3/28

Prioridades unionistas

62/872,780 · 11/07/2019

Resumo técnico

DISPOSIÇÕES DE CONDUTO DE DOSAGEM PARA SISTEMA DE PÓSTRATAMENTO DE ESCAPE. Trata-se de um dispositivo de pós-tratamento que inclui guias de fluxo dispostos dentro de um conduto de dosagem. O escape entra através de uma região perfurada do conduto de dosagem e passa através dos guias de fluxo. Os guias de fluxo induzem redemoinho ou outra turbulência para misturar o reagente injetado com o gás de escape. Vários tipos de guias de fluxo incluem palhetas fixas em cantiléver, passagens de guia e aberturas com aletas de um segundo conduto. Alguns tipos de guias de fluxo induzem a mistura localizada para inibir a formação de depósitos na unidade de montagem de dosador. Outros tipos de guias de fluxo induzem a mistura a jusante do conduto de dosagem.