Parecer de pré-exame
#6.23
14/07/2026
RPI 2897
Dados do pedido
Número
112021024373Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2020022200 O INPI emitiu parecer técnico sobre a patenteabilidade. O depositante tem de se manifestar para o exame prosseguir.
Última movimentação publicada pelo INPI: 14/07/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
DAIICHI SANKYO COMPANY, LIMITED
JP
F. U. (pessoa física)
JP
Inventores
M. K. (pessoa física)
JP
M. F. (pessoa física)
JP
S. I. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2019-105532 · 05/06/2019
JP
2019-148463 · 13/08/2019
Resumo técnico
RNA GUIA ESTÁVEL PARA EDIÇÃO DE ALVOS TENDO ÁCIDO NUCLEICO QUIMICAMENTE MODIFICADO INTRODUZIDO A ELE. A presente invenção refere-se a um oligonucleotídeo que induz uma edição sítio específica para um RNA alvo, o oligonucleotídeo incluindo um primeiro oligonucleotídeo que especifica um RNA alvo; um segundo oligonucleotídeo que é ligado ao lado 3' do primeiro oligonucleotídeo; um terceiro oligonucleotídeo que é capaz de formar um par complementar com o segundo oligonucleotídeo; e uma primeira porção de ligação entre o segundo oligonucleotídeo e o terceiro oligonucleotídeo. O primeiro oligonucleotídeo é composto por um resíduo de nucleotídeo correspondente ao alvo correspondendo a um resíduo de adenosina no RNA alvo, um oligonucleotídeo de 10 a 30 resíduos ligados ao lado 5' do resíduo de nucleotídeo correspondente ao alvo e com uma sequência de base complementar ao RNA alvo, e um oligonucleotídeo de 3 a 6 resíduos ligados ao lado 3' do resíduo de nucleotídeo correspondente ao alvo e com uma sequência de base complementar ao RNA alvo. O segundo oligonucleotídeo consiste em 5 a 8 resíduos e o terceiro oligonucleotídeo consistem em 5 a 8 resíduos. Pelo menos um resíduo selecionado de uma contra região composto pelo resíduo de nucleotídeo correspondente ao alvo e dois respectivos resíduos nos seus lados 3' e 5' é um resíduo de nucleotídeo que não seja um resíduo natural de ribonucleotídeo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#6.23
14/07/2026
RPI 2897
#1.3
18/01/2022
RPI 2663
#1.1
14/12/2021
RPI 2658
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