Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
12/09/2023
RPI 2749
Dados do pedido
Número
112021018407Tipo
Depósito
Publicação
PCT
DK2020050068 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 18/03/2020, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 12/09/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
LEITHA CLEAN TECHNOLOGIES A/S
DK
Inventores
C. L. (pessoa física)
DK
D. G. (pessoa física)
DK
Prioridades unionistas
DK
PA 2019 00338 · 19/03/2019
Resumo técnico
COMPOSIÇÃO LÍQUIDA, MÉTODO PARA COMBATER SUJEIRAS, MICRORGANISMOS E ODORES, MÉTODO PARA PRODUZIR A COMPOSIÇÃO E USO DA MESMA.Um revestimento fotocatalítico transparente para a geração in situ de radicais livres que combatem micróbios, odores e compostos orgânicos à luz visível é revelado, caracterizando um material catalítico compreendendo um dopante e tendo distribuição de tamanho de partícula adequada para confinamento de éxciton para mudar cumulativamente o processo fotocatalítico na faixa de luz visível. Além disso, a presente invenção caracteriza um método para produzir o material fotocatalítico descrito na presente invenção. Além disso, a presente invenção revela um método de aplicação do revestimento fotocatalítico a uma superfície de um local. Finalmente, a presente invenção caracteriza o uso do revestimento fotocatalítico para remover contaminantes e microrganismos no local.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
12/09/2023
RPI 2749
#11.1
27/06/2023
RPI 2738
#1.3
23/11/2021
RPI 2655
#1.1
28/09/2021
RPI 2647
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.