Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 12/02/2020, observadas as condições legais
14/04/2026
RPI 2884
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Dado oficial do INPI
GRAVAÇÃO EM RELEVO OU GRAVAÇÃO EM DEPRESSÃO DE SUBSTRATO DE RÓTULO
ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2020017869
Dados do pedido
Número
112021013384Tipo
Patente de Invenção
Depósito
12/02/2020
Publicação
14/09/2021
PCT
US2020017869 Andamento no INPI
- Depósito12/02/20
- Publicação14/09/21
- Exame
- Deferimento31/03/26
- Concessão14/04/26
- Em vigor12/02/40
Patente concedida em 14/04/2026 e em vigor até 12/02/2040. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:12/02/2040
Última movimentação publicada pelo INPI: 14/04/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
M. C. (pessoa física)
US
Inventores
B. M. (pessoa física)
US
C. S. (pessoa física)
US
C. B. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
62/804,333 · 12/02/2019
Resumo técnico
GRAVAÇÃO EM RELEVO OU GRAVAÇÃO EM DEPRESSÃO DE SUBSTRATO DE RÓTULO. Um rótulo como mostrado e descrito na presente invenção. O rótulo pode incluir um substrato de rótulo, um adesivo adjacente ao substrato e um revestimento adjacente ao adesivo, de modo que adesivo seja disposto entre o substrato de rótulo e o revestimento e em que o substrato de rótulo é gravado em relevo ou gravado em depressão e o revestimento não é gravado em relevo ou gravado em depressão.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
31/03/2026
RPI 2882
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
02/12/2025
RPI 2865
Parecer de pré-exame
#6.23
13/05/2025
RPI 2836
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
14/09/2021
RPI 2645
Alteração de dados cadastrais
#1.1
13/07/2021
RPI 2636
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