Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
18/02/2025
RPI 2824
Dados do pedido
Número
112021006990Tipo
Depósito
Publicação
PCT
CL2019050097 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
THOR SPA
CL
Inventores
P. B. (pessoa física)
CL
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CL
2901-2018 · 11/10/2018
Resumo técnico
SISTEMA PARA INJETAR CORRENTE ALTERNADA EM CÉLULAS ELETROLÍTICAS, EM GRUPOS CONSECUTIVOS DE ELETRODOS. A invenção refere-se a um sistema para sobrepor corrente alternada, tendo alta intensidade controlada e uma frequência acima de 5 [KHz], em corrente contínua que circula das superfícies do ânodo para as superfícies do cátodo, em células eletrolíticas contendo múltiplos ânodos e cátodos interpostos, para processos de eletroextração ou eletrorrefinação de cobre e outros metais. O sistema fornece a corrente alternada, em grupos consecutivos de eletrodos, cada um sendo formado por um pequeno número de eletrodos consecutivos, de modo que a corrente alternada fornecida circule da superfície do primeiro eletrodo para a superfície do último eletrodo consecutivo de cada grupo, e das superfícies de cada eletrodo à superfície do eletrodo consecutivo, através do eletrólito contido entre os eletrodos de cada grupo, em que os grupos de eletrodos incluem todos os cátodos da célula. Enquanto isso, simultaneamente, a corrente contínua circula em paralelo das superfícies do ânodo para as superfícies do cátodo e através do eletrólito contido entre os eletrodos, e em que o número de eletrodos de cada grupo é um parâmetro determinado de acordo com uma proporção da corrente de fuga de corrente alternada, ou outro parâmetro estatístico da distribuição da intensidade da corrente alternada nos eletrodos, que seja tolerável para o controle do processo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
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