Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
08/08/2023
RPI 2744
Dados do pedido
Número
112020021943Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2019017166 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 08/08/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
JP
Inventores
H. F. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2018-086197 · 27/04/2018
Resumo técnico
DISPOSITIVO DE DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA E MÉTODO DE DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA. São fornecidos um aparelho de deposição de película e um método de deposição de película capazes de controlar com precisão distribuição circunferencial de espessura de uma película formada sobre uma peça de trabalho. O método e aparelho de deposição de película incluem fazer a quantidade total de energia elétrica fornecida a uma primeira fonte de evaporação maior do que a quantidade total de energia elétrica fornecida a uma segunda fonte de evaporação durante o período para formação da película de modo que uma porção formada por partículas emitidas a partir da superfície de emissão da primeira fonte de evaporação seja mais grossa que uma porção formada por partículas emitidas a partir da superfície de emissão da segunda fonte de evaporação na película formada sobre uma superfície de deposição da peça de trabalho.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
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