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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA OBTER ÓXIDO DE VANÁDIO A PARTIR DE UMA ESCÓRIA DE GASEIFICADOR

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · IB2019052718

Dados do pedido

Número

112020020398

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

03/04/2019

Publicação

12/01/2021

PCT

IB2019052718

Andamento no INPI

  1. Depósito03/04/19
  2. Publicação12/01/21
  3. Exame
  4. Deferimento06/06/23
  5. Concessão15/08/23
  6. Em vigor03/04/39

Patente concedida em 15/08/2023 e em vigor até 03/04/2039. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:03/04/2039

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/08/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

RELIANCE INDUSTRIES LIMITED

IN

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

A. S. (pessoa física)

US

A. D. (pessoa física)

IN

G. R. (pessoa física)

IN

M. J. (pessoa física)

IN

P. C. (pessoa física)

IN

S. M. (pessoa física)

IN

S. D. (pessoa física)

IN

S. M. (pessoa física)

IN

S. G. (pessoa física)

IN

V. P. (pessoa física)

IN

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

IN

201821012666 · 03/04/2018

Resumo técnico

PROCESSO PARA OBTER ÓXIDO DE VANÁDIO A PARTIR DE UMA ESCÓRIA DE GASEIFICADOR.É divulgado um processo para obter componente de vanádio na forma de óxido de vanádio a partir de escória de gaseificador. O processo compreende pulverizar a escória para obter escória pulverizada, que é misturada com água e um sal alcalino para obter uma pasta. A pasta é seca e depois torrada na presença de ar para obter uma escória torrada. A escória torrada é lixiviada para se obter um primeiro filtrado compreendendo o componente de vanádio. O primeiro filtrado reage com um sal de magnésio para remover um componente de sílica na forma de um precipitado. O segundo filtrado livre de sílica reage com um sal de amônio para obter metavanadato de amônio, que é posteriormente calcinado para se obter uma quantidade significativa de pentóxido de vanádio (V2O5).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 03/04/2019, observadas as condições legais

15/08/2023

RPI 2745

Deferimento

#9.1

06/06/2023

RPI 2735

Parecer de pré-exame

#6.23

10/01/2023

RPI 2714

Adição na publicação

#15.35

14/12/2021

RPI 2658

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/01/2021

RPI 2610

Alteração de dados cadastrais

#1.1

20/10/2020

RPI 2598

Monitoramento de patentes

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